中古 TRIKON / ELECTROTECH MS 6210 #9266539 を販売中

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ID: 9266539
ウェーハサイズ: 6"
Sputtering system, 6" (2) Power supplies, 12 kW Sputter etcher CELTEK CM 13-6 RF Generator Metals used: Cu, Cr, TiW, Au, Ti (2) Targets: Cr and Ti Ar Gas Shutter CTI-CRYOGENICS SCW Cryo compressor Spare parts: PCB Gauge Power supply: 400 V, 50 Hz.
TRIKON/ELECTROTECH MS 6210スパッタリング装置は、さまざまな薄膜成膜および分析用途向けに設計された高精度、高性能スパッタリングシステムです。このユニットは、マグネトロンスパッタリングを使用して、幅広い基板および材料にわたって信頼性の高い再現可能な薄膜蒸着を提供します。この機械は、デュアルカソード、デジタルプロセスガス、圧力制御を備えた真空チャンバー、および蒸着プロセスを監視し、製品品質を監視するための統合された高解像度光学検査ツールを備えています。このアセットは、酸化物、窒化物、金属などの2つの異なる膜を同時に堆積させることができるユニークなデュアルカソード配置を特徴としています。沈着速度と組成は常に監視され、最適な性能を得るために調整されます。TRIKON MS 6210はまた、各アプリケーションに最適な蒸着条件を提供するように構成することができる調整可能なプロセスガスおよび圧力制御モデルを備えています。装置は薄膜の沈殿プロセスを監視し、良質の沈殿物を保障するために高解像度の光学系と設計されています。光学システムは、高解像度のデジタルカメラと堆積率、組成、製品品質の自動分析のための洗練されたソフトウェアと統合されています。また、基板の均一性、層の厚さ、粗さなどの特性を詳細に解析することができます。ユニットは強力なコンピュータ制御マシンによってサポートされており、さまざまな堆積プロセスのレシピの包括的なライブラリが含まれています。コンピュータ制御ツールは、ユーザーフレンドリーであり、堆積プロセスとデータ取得を正確に制御するように設計されています。レシピと設定を簡単に変更し、将来の使用のために保存することができます。このアセットは、薄膜成膜および解析アプリケーションにおいて、高性能かつ高精度に設計されています。コンパクトなため、製造ラインへの設置が容易です。このモデルは、保護シールド、基板ホルダー、スパッターガード、集塵システムなど、幅広いアクセサリーやコンポーネントとも互換性があります。ELECTROTECH MS-6210スパッタリング装置は、薄膜成膜および分析用途に理想的な選択肢です。高精度の蒸着速度、組成制御、および高解像度の光学系は、信頼性と再現性の高い結果を提供します。このシステムは幅広い互換性のあるコンポーネントとアクセサリを備えており、さまざまな製造および研究アプリケーションに対応する汎用性の高いソリューションとなっています。
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