中古 TEL / TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD #9212338 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD （Physical Vapor Deposition）は、様々な素材・用途に対応したスパッタリング装置です。この最先端の機器は、高精度技術を備えており、プロセス能力を向上させることができます。このスパッタリングシステムは、TEM （Thin Film Elecron-Multiplier unit）で設計されています。プラズマの精度を維持しながら、入力データエラーを自動補正することができます。この機能により、プロセスの歩留まりが向上し、高品質の電極製品が得られます。また、PVDは独自の高アスペクト比チャンバー設計を採用しています。この設計は、プロセスの均一性を高めることに基づいて、チャンバー大気ダイナミクスの最適な制御を提供します。また、チャンバー設計によりスパッタリング時間が短縮され、顧客はバッチ収率とスループットを最大化することができます。TEL Nexx Nimbus PVDは、幅広い交換可能な複数の電極を提供します。この機能は、お客様に電極選択の柔軟性を提供します。これらの電極は、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズすることができ、お客様はさまざまな材料の特定のプロセスを最適化することができます。TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVDには、集中操作コントロールパネルもあります。この機能により、操作状態を簡単に表示でき、リアルタイム診断が可能です。これにより、ユーザーは迅速な診断とトラブルシューティングを実行できるため、ダウンタイムを最小限に抑え、スループットを最大化できます。さらに、Nexx Nimbus PVDは、酸化、窒化、イオン注入、エッチング、拡散など、さまざまなプロセスオプションも備えています。この汎用性により、お客様はプロセスを簡単に調整して最適な結果を得ることができます。TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVDは最先端のスパッタリングツールで、精度と制御性を高めています。この最先端のアセットは、ユニークなチャンバー設計、複数の交換可能な電極、およびさまざまなプロセスオプションを備えています。これらの機能はすべて、高品質の製品の歩留まりと生産を改善することを可能にします。