中古 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 314 #9206551 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314（スパッタリング装置）TEL （NEXX）は、高品質なフィルムを低コストで作成することを目標に設計されたカスタマイズ可能で構成性の高いスパッタシステムです。TEL Nimbus 314は、3つの独立したターゲットで構成された3つのプラテン設計により、複数のユニットセルや金属を同時にスパッタすることができます。スパッタリングされたフィルムは、電気抵抗、結晶性、湿潤特性などの特性を正確に調整することができ、ユーザーは正確な要件を満たすユニークで正確なフィルムを作成することができます。NEXX Nimbus 314は、他のスパッタリングシステムよりも高い濃度のイオンを生成する独自の磁気閉じ込めプラズマ源を使用しています。これにより、スパッタフィルムの蒸着速度が向上し、均一性が向上し、汚染の可能性が低減され、大量のアプリケーションに最適です。磁気的に閉じ込められたプラズマ源により、Nimbus 314は貴金属から合金、半導体材料まで幅広いターゲット材料を扱うことができます。TOKYO ELECTRON Nimbus 314は、効率性と柔軟性を最大限に引き出すように設計されています。調整可能な電源ユニットを備えており、ターゲット材料が効率的かつ一貫してスパッタされることを保証するために、さまざまな電圧と基板を提供するように構成することができます。また、精密な角度調整に使用できる角度不変イオンガンと、使用可能なスパッタリング領域とセンタリング精度を高めるための調整可能なインシデント角度を備えています。TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314は直感的で操作しやすいユーザーインターフェースを備えており、経験豊富なプロフェッショナルと新規ユーザーの両方に最適です。また、フィルムの成長を監視するためのツールのセットが付属しています。さらに、スパッタされた材料への偶発的な暴露からユーザーを保護するように設計された安全機能が組み込まれています。要するに、TEL Nimbus 314 from TOKYO ELECTRON （TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX）は、最適な性能と優れたフィルム品質を実現するために設計された、構成可能で効率的なスパッタツールです。それは高い柔軟性を提供します、ユーザーが彼らの正確な要件を満たすために自分のフィルムをカスタマイズすることができます。この資産は、強力な磁気的に閉じ込められたプラズマ源を活用して、より高い濃度とより均一なカバレッジでイオンを生成し、より一貫した蒸着速度と高品質のフィルム成長をもたらします。さらに、包括的なユーザーインターフェイスと、効率と安全性を高めるためのさまざまな自動化されたプロセスが付属しています。