中古 SUNIC NPM-1250PCA #293639063 を販売中
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ID: 293639063
ヴィンテージ: 2016
Sputtering system
100 x 100 mm
Power rack
Loading and unloading chamber:
Substrate size: 120 x 120 mm
SUS-304 Chamber type: Square, vertical
IMS Linear transfer kit
VAT Gate valve: Rectangular type
Low vacuum pump: Rotary pump
INFICON Chamber gauge: Pirani gauge
Sputter chamber:
Substrate size: 120 x 120 mm
SUS-304 Chamber type: Square, vertical
Substrate heater: Inner and outer heater
Substrate rotation speed : 5~10 RPM
GENUIS Pressure control valve: Throttle valve, ISO 200
MKS Pressure control gauge: CDG gauge, 0.1 Torr
Process gases control, MFC: O2: 5 sccum, N2: 50 sccum
Low vacuum pump: Rotary pump
GENESIS Cryo / ISO 200 High vacuum
MGI ISO 200 High vacuum valve
INFICON Pumping line gauge: Pirani gauge
INFICON Chamber gauge: Full range gauge
Plasma source unit:
IMS gun, 4"~6"
RFPP RF Power: 13.56 MHz, 500W
NP Power supply: 13.56 MHz, matching box
AC Magnetron DC supply: 3kQ
TS: 70 mm (Non variable)
Offset: 100 mm (Non variable)
Heating block: Φ220 / Substrate plate 120 x 120 mm
Substrate loading and unloading: Pin up / down
2006 vintage.
SUNIC NPM-1250PCAは、さまざまな材料の高性能薄膜成膜用に設計されたスパッタ装置です。このシステムは、シングルチャンバー内の高出力パルスDCマグネトロンスパッタリング技術を利用し、2つの独立した磁気源（カソード）によって幅広い基板の両面コーティングを可能にします。スパッタコントロールユニットは、最大12の異なるプロセスステップと最大12のプログラマブルパワー設定を可能にし、マシンの汎用性と信頼性を高めます。スパッタ速度は広いダイナミックレンジで調整でき、ロボットアームは精密な蒸着速度と表面の均一なカバレッジを提供します。NPM-1250PCAツールにはPLCタッチスクリーンコントローラが装備されており、オペレータはスパッタリング電力、スパッタリング速度、圧力などのパラメータを設定および変更し、正確な操作のために最大10のユーザー定義プロファイルを保存することができます。このアセットは、長方形、円形、正方形など、多くの実用サイズで最大8つの基板を同時に処理できるように設計されています。モデルは10-6 mbarのベース圧力を持ち、速効ダイヤフラム真空ポンプで最大10-2 mbarまでポンプで送ることができます。作業室容積は142リットルで、寸法は800 x 800 x 500 mmです。利用可能なプロセスガスは、アルゴン、窒素、酸素であり、精密蒸着のための自動ガス流量計を介して制御することができます。この装置は、金属、セラミックス、半導体、酸化物などの幅広い材料を、優れた光学および電気特性で堆積することができます。熱蒸着、電子ビーム、斜角蒸着、スパッタ蒸着、化学蒸着（CVD）など、様々な蒸着技術に対応しています。このシステムは、PECVDおよび反応イオンエッチングにも使用でき、高度な薄膜処理のための完全なソリューションを可能にします。SUNICの高度な冷却ユニットは、蒸着材料の安定した再現可能な温度制御を保証し、パフォーマンスに重要なアプリケーションのための一貫した信頼性の高いフィルム特性をもたらします。全体として、SUNIC NPM-1250PCAスパッタリングマシンは、幅広い薄膜成膜およびエッチング用途に理想的なプラットフォームを提供します。独自の特徴と信頼性により、高品質で高精度な製品を作成するのに適しています。
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