中古 SLOAN 1800 #293751854 を販売中
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ID: 293751854
ヴィンテージ: 1980
Sputtering system
Lid: 26" diameter
Chamber: 30" diameter
(4) Sputtering targets: 3.5" x 8"
Rotating mechanism
1980 vintage.
SLOAN 1800は、高度な半導体およびマイクロエレクトロニクス製造プロセスにおける薄膜成膜用に特別に設計された高性能スパッタリング装置です。最先端の技術と高度なオートメーション機能を組み合わせた最先端のシステムで、幅広いアプリケーションに精密で一貫したフィルム品質を提供します。1800単位の中心に金属、酸化物および窒化物のようなさまざまな材料を沈殿させることができる多数の陰極が装備されているスパッタリングチャンバーがあります。デュアルマグネトロンスパッタリング技術により、高い沈着率と優れた膜均一性を実現し、大量生産環境に最適です。このマシンには、沈着速度、膜厚、フィルム組成などの主要パラメータをリアルタイムで監視および調整するクローズドループのフィードバックシステムなど、高度なプロセス制御機能が装備されています。このレベルの制御により、堆積膜は最先端の半導体デバイスの製造に必要な厳しい品質基準を満たしています。高度なプロセス制御機能に加えて、SLOAN 1800ツールは高い柔軟性と拡張性を提供します。このアセットは、層の厚さと組成を正確に制御して多層膜を堆積させるために簡単に構成することができ、半導体、オプトエレクトロニクス、およびMEMS産業の幅広い用途に適しています。1800モデルは使いやすさとメンテナンスのために設計されており、ユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、オペレータは蒸着プロセスを素早くセットアップして最適化できます。統合された診断機能と予知保全機能により、ダウンタイムを最小限に抑え、中断のない生産のための最大限の機器稼働時間を確保できます。操作中のオペレータや機器を保護するためのインターロック、安全センサー、緊急停止ボタンなどの機能を備えたSLOAN 1800システムの設計においても、安全性が最優先されています。このユニットは、ユーザーのための安全な労働環境を確保するために、業界標準および規制に準拠しています。全体的に、1800スパッタリングマシンは、高度な半導体製造プロセスにおける薄膜成膜のための汎用性と信頼性の高いツールです。高性能、高度なプロセス制御機能、ユーザーフレンドリーな設計を備えたこのツールは、精度と信頼性が最も重要な大量生産環境に適しています。
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