中古 RSI / VANGUARD Sencera #9300991 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 9300991
In-line sputtering system
(6) Target large panels
Vacuum pump
Turbo pump
RF and DC Power supply
Qty / Make / Model / Description / Part Number
(4) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle 3152442-102D / Generators / -
(2) / MKS / optima RPG-50Z / DC power supply / RPDG-50Z-10237
(1) / MKS / optima DCG-200Z / DC power supply / RPDG200Z-08055
(1) / ADVANCED ENERGY / MDX / 2011-000-AA / Magnetron Drive / -
(1) / ADIXEN / AD30KL / Dry pump / -
(1) / BOC EDWARDS / STP-iXA2206C / Turbomolecular turbo pumps / - / YT81-0Z-010 controller
(2) / BOC EDWARDS / STP-iXA2205CP / Turbomolecular turbo pumps / - / iPS-1200 YT63-W1-Z10 & Z00 controller
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS2/0001 A-1799517 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS1/0002 A-973785 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0005 A-977764 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0006 A-97776 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / ALLEN BRADLEY / 1734 / Processors and I/O / -
(1) BROOKS AUTOMATION / MFC / Delta Series / -.
RSI/VANGUARD Senceraは、薄膜成膜およびコーティング用途向けに設計されたスパッタ装置です。低温で冷却された2つの陰極を利用して、高真空環境の陰極ターゲットから材料を蒸発させ、基板に堆積させます。蒸発した材料は通常チタン、アルミニウム、クロム、または鉄であり、RSI Senceraシステムは1秒あたり最大2アングストロームの蒸着速度が可能です。VANGUARD Senceraには、材料イオン化の方向とエネルギーを制御するための双極スパッタリングモードがあります。このモードは、均一な堆積とコーティング、低スパッタリング、および低寄生再配置に役立ちます。このユニットには、荷電粒子のイオン化を制御するための内部磁石と、均一なカバレッジを確保するための周波数スイープ発生器も含まれています。Senceraマシンは、高真空環境を作成するためのコンパクトな蒸着チャンバーと工業用グレードの真空ポンプが含まれています。チャンバーには、蒸発した材料をターゲットにしてトラップし、温度を測定するために基板を囲む電極が装備されています。チャンバーの温度を監視し、5〜40°Cまで制御することができます。RSI/VANGUARD Senceraは、プリセットモードを含む複数の動作モードを備えたユーザーフレンドリーなインターフェイスを備えており、望ましい結果をもたらした実験を簡単にリコールできます。プログラム可能なレートフィーダにより、蒸着率などのスパッタリングプロセスパラメータをより高い精度で決定できます。このツールには、過電圧保護や電源シャットダウンなどの安全機能も内蔵されています。全体として、RSI Senceraアセットは、薄膜成膜およびコーティング用途向けの優れたスパッタリングモデルです。その磁石および周波数スイープ技術は、高い沈着率と均一なイオン化を可能にし、そのフレンドリーなインターフェイスと調節可能な温度制御により、使いやすいです。また、安全機能が内蔵されているため、再現性のある実験でも安全で信頼性が高くなります。
まだレビューはありません