中古 PERKIN ELMER 4450 #9114028 を販売中
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ID: 9114028
Sputtering system
Au, Ni/V process
Omron PLC Control
(2) Gas
(2) Delta target
(2) AE MDX-5 PS
CT-8 Cryo pump
Pallet, 6"
No etch, LL heat
Currently installed
2000-2005 vintage.
PERKIN ELMER 4450スパッタリング装置は、金属、セラミック、半導体、酸化物層など、幅広い薄膜用途に最適な汎用性の高い高性能な真空蒸着システムです。4450ユニットは、再現可能なウェーハの均一性を実現する静電チャック、基板保護用の自動シャッター、独自のマルチマグネトロンスタック配置を備えています。これらの機能は、集積回路アプリケーションに不可欠な薄膜材料の均一な蒸着を提供します。PERKIN ELMER 4450は、最大500ワットの調整可能なスパッタリング電源を備えた直流(DC)電源を使用しており、最大4つの独立したソースを同時に蒸着することができます。これにより、オペレータは1つのチャンバーに複数の薄膜を堆積させることができ、プロセススループットが向上します。スパッタ源は独立して操作することができ、基板上の高い均一性で、材料組成と蒸着速度を正確に制御することができます。4450マシンは、優れたスパッタプロセス制御を提供し、スパッタターゲット、金属、酸化物の広い範囲の使用を可能にします。高度のマグネトロンの設計は大きい基質上の優秀なビームプロフィール制御を可能にします;基質全体の均一性をもたらします。このツールは、温度とセンサーのフィードバックを統合した精密なプロセス制御を提供し、適切なターゲット間の間隔を確保し、パルススパッタリングごとに一貫したパワーレベルと均一なターゲット使用率を確保します。直感的なPCベースのグラフィカルユーザーインターフェイスは、ワンボタンの開始/停止シーケンスとターゲット電流、基板温度、スパッタリング速度、およびフィルム厚のリアルタイム表示で、使いやすさを保証します。自動化された基板負荷とアンロードにより、効率的で便利なサンプル処理と高速な処理時間を実現します。全体として、PERKIN ELMER 4450スパッタリングアセットは、薄膜蒸着プロセスの自動高性能モデルを探している研究者や企業に最適です。多彩な機能と柔軟なプロセス制御により、集積回路開発から金属コーティング、保護層まで、幅広い用途に対応できます。装置のユーザーフレンドリーなインターフェイスと信頼性の高いパフォーマンスは、あらゆる実験室に大きな追加をもたらします。
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