中古 PERKIN ELMER 4450 #9114027 を販売中

PERKIN ELMER 4450は、主に材料の薄膜蒸着および分析に使用されるスパッタリングシステムです。ナノ構造材料の堆積や導体層の形成など、さまざまな研究開発作業に最適です。この装置は、ターゲットホルダー付きスパッタチャンバー、プロセスガスインレット、およびターゲットの下にあるフラットプレート基板ホルダーで構成されています。チャンバー内部では、高純度アルゴンまたは他の不活性ガスがホットカソードまたは電子銃によってイオン化され、ターゲットから基板上にスパッタ材料が供給されます。このプラズマスパッタ堆積は、シリコン、ガラス、セラミックスなどの基板に、金、銅、クロムなどの材料の精密な厚さで薄く均一な層を堆積させることを可能にする、遅く、高度に制御されたプロセスです。システムのコンピュータ制御ソフトウェアにより、基板温度やスパッタレートなどの特定の堆積要件を満たすように幅広いプロセスパラメータを設定および調整できます。これらには、ガス圧力、基板バイアス、ターゲット電力、基板曲率、および発生角度が含まれます。4450は、堆積している層の表面組成、化学組成、および組成プロファイルの完全なin-situ分析を可能にします。これは、蒸着チャンバ内に直接適切な外部分析装置を設置することによって行われます。このような分析により、研究者は堆積層の特性を最適化し、望ましい層の厚さ、組成、プロファイルを検証することができます。さらに、PERKIN ELMER 4450は、イオンビーム混合や反応スパッタリングなど、堆積膜の品質を向上させるさまざまな技術を実装することができます。これらの技術は、堆積可能な材料の範囲を拡張し、層の電気的、光学的、および熱特性を改善し、窒化物や炭化物などの化合物の形成を可能にします。4450は、精密かつ再現性のある薄膜成膜と完全なin-situ解析を提供するように設計された高度なスパッタリングシステムです。幅広いパラメータと設定により、さまざまな基板にさまざまな材料を堆積させることができ、レイヤーの特性を制御および最適化することができます。