中古 PERKIN ELMER 4450 #9089262 を販売中

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ID: 9089262
Sputtering system, up to 6" (3) Targets Delta configuration RF power supply DC power supply Turbo pumped load lock CTI cryopump and compressor LH D65B Dual stage vacuum pump.
PERKIN ELMER 4450は、薄膜を基板上に堆積させるための真空システムで使用されるスパッタリング装置です。5-1000 mtorrの調整可能な圧力範囲を持つアルゴンスパッターガン、2 × 10-8 torrのベース圧力、および1 × 10-2 torrの最大圧力を使用します。このシステムは、金属、半導体、酸化物など、さまざまな材料をスパッタすることができます。4450単位のスパッタ銃のための電源は0-200ワットおよび10-500 kHzから力および頻度を調節する機能の高周波交流電流(HFAC)または直流(DC)源である場合もあります。また、基板上の材料のカバレッジの均一性を確保するための回転プラットフォームを備えています。PERKIN ELMER 4450は、スパッタレートを監視し、一貫した結果を保証し、スパッタプロセスの優れた制御を提供する高耐久閉ループ帰還技術(HTCLFT)で設計されています。既存のガスコントロールマシンとも互換性があり、標準的な超高真空環境で使用できます。スパッタ沈着速度は1-1000 Angstroms/secondから調節可能です。このツールには、スパッタレート、基板バイアス、基板回転速度を制御できるセミオートモードがあります。また、直径8インチまでの基板に対応できる大型のトップローディング炉を備えています。4450はスパッタされている材料の詳細な分析のための表面スパッタ粒子を検出することができる任意二次電子検出器を備えています。また、ストップモーションとステップアンドリピートスパッタリングを実行することができます。高精度を必要とするプロセスには、PERKIN ELMER 4450が最適です。その耐久性のあるデザインと直感的なコントロールにより、長期的に使いやすく維持できます。調整可能なスパッタレートと基板バイアス、クローズドループのフィードバック技術により、スパッタプロセスを厳密に制御できるため、研究開発、プロトタイピング、生産アプリケーションでの使用に最適です。
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