中古 PERKIN ELMER 4400 #9355617 を販売中

ID: 9355617
Sputtering system (3) Round targets, 8" With RF etch CTI On board (8) cryopump with fast regen controller ADVANCED ENERGY RFG 1250 RF Power supply ADVANCED ENERGY RFG / AZX RF Controller GRANVILLE PHILLIPS 307 Ion gauge controller MKS 270 Signal controller.
PERKIN ELMER 4400は、研究および産業用途における成膜用に設計されたスパッタリング装置です。この装置は、基板を迅速かつ効率的に処理できる多数の機能と技術で構築されています。4400年に採用されたパルスリバースマグネトロンスパッタリング技術は、薄膜を生成し、基板上の接着性を高めるための汎用性と信頼性の高いプロセスです。デューティサイクルは、設定されたパラメータに応じて迅速かつ正確に調整でき、一貫したフィルム成長を保証します。また、マルチターゲット構成も可能で、量産ラインにとって大きなメリットとなります。また、PERKIN ELMER 4400は堅牢な電源で設計されており、さまざまな成膜技術に必要なRFパワーレベルを正確に制御できます。これにより、ターゲット条件に関係なく、フィルムの均一性と一貫性が保証されます。4400は、革新的な真空ユニットでクリーンな作業環境を確保します。Edwards 40 XDSドライスクロールポンプと排気システム150ドライバキュームポンプを含む多段ポンプ機で設計されており、蒸着室と工具の排気を迅速に排出できます。さらに、PERKIN ELMER 4400には、油汚染を防ぐインラインオイルセパレータが装備されています。また、ウエハサイズは直径8インチ(200mm)まで対応できるため、基板のサイズや構成も4400で拡張されています。これにより、異なる基板に対応する柔軟性と、小回り処理能力が向上します。全体として、PERKIN ELMER 4400は精度、信頼性、生産性を提供し、医療機器、半導体、化合物半導体、産業用真空部品など、幅広い成膜アプリケーションに適しています。このスパッタリングアセットは、合理化されたプロセスで薄膜成膜に簡単にアプローチできるように設計されています。それはまた、それが最も過酷なタスクまでであることを保証する機能や技術の多くを備えています。
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