中古 PERKIN ELMER 4400 #9161732 を販売中

ID: 9161732
Sputtering system (3) Targets DC and RF magnetron power supplies Load lock.
PERKIN ELMER 4400は、さまざまな複雑な研究のための表面を準備するために設計されたスパッタリング装置です。フィルムや金属マスクパターニングなどに使用される各種基板に薄膜を付着させるスパッタリングプロセスを採用しています。この高性能成膜ユニットは、イオン源を利用して基板を材料で爆撃し、表面に均一で高品質で制御された薄膜オームを生成します。機械は大きい労働環境と設計され、材料の広い範囲の沈殿を可能にするために複数のガスマニホールドおよびガスパネルを含んでいます。最大3つの基板で動作可能で、従来のDCまたはDCパルス型のスパッタリングソースを装備できます。このツールは、毎分2ナノメートルの最大スパッタリング速度を備えており、迅速かつ効率的な蒸着プロセスを可能にします。4400にはマグネトロン源が装備されており、線形源よりも堆積率が向上しています。アセットには、プロセスの安定性と再現性を確保するための高度なコントローラと安全インターロック機構も装備されています。また、パルスパワー、マルチステップシーケンシング、レシピストレージなどの機能を備えた自動コントローラも含まれています。コントローラには温度モニターと自動シャットオフ機能も内蔵しています。PERKIN ELMER 4400は、ハイスループット蒸着環境向けに開発されており、オートスタート機能を備えたカラーグラフィカルユーザーインターフェイスなど、使いやすい機能を備えています。また、自動基板搬送機構と高度な診断装置を搭載し、基板のストレスフリー輸送を実現しています。さらに、マルチスパッタアプリケーション用にシステムを拡張することができ、複数の薄膜を堆積させることができます。4400は最新のスパッタリング技術を表し、ターゲットを絞った金属マスクパターニング、エッチング、パッシベーションなど、さまざまなアプリケーションで使用できます。このユニットは、スパッタリング装置に使用可能な最高の精度、再現性、および制御を提供し、さまざまな研究および産業環境で使用することができます。
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