中古 PERKIN ELMER 2400 #9215991 を販売中

ID: 9215991
Sputtering system With load lock Platen optimum, 4.5"-8" Gun, 2"-3" With PLC control PLC / PC With data logging W-10 Remote access Load lock reduces pump down time Anode / Cathode spacing remotely adjustable Heat / Cool substrate table Automated for high production throughput Optional heat / Cool table: 600° With rapid cool down (3) Cathodes diameter, 8" Round targets, 8” Vacuum station: Turbo molecular / Diffusion-pump Tuning: Randex Servo-match automatic tuning LEYBOLD 450 Turbo pump No mechanical pump No RF generator Substrate table: Water-cooled, 8" diameter Etch / Bias operations: Up to 1 kW Etch Variable bias: 0 to 50% Shutter: Stainless steel cup Vertical and radial adjustment Control & meters: Manual override toggle switches for load and tune controls Target selector Mode selector Shutter position switches Bias adjust potentiometer RF Power adjust control RF Power ON / OFF push button Table bias Forward power Reflected power meter RF Power supply: 1 & 2 kW Controlled remotely from sputtering module.
PERKIN ELMER 2400は、スパッタ可能な材料の薄い層を基板に堆積するように設計されたハイエンドスパッタリング装置です。高い蒸着速度で薄い均一なコーティングが可能で、光学、表面感受性、磁気デバイスなど様々な用途に使用できます。このシステムは、2ソースと4ソースのシステムを通じて高度なスパッタコーティング機能を提供し、堆積する材料の種類に応じて個別の構成を採用しています。いずれの場合も、高スループットの高真空プラットフォームを採用しているため、過度の加熱や酸化を行わない超薄型層蒸着が可能です。2400は自動化されたプロセスを採用し、20 Angstroms (A)から5000 Aまでの精密な反復可能なコーティングを可能にします。このマシンには2つまたは4つのスパッタ源があり、それぞれを個別に調整して蒸着プロセスをより大きな制御することができます。また、周囲の空気の代わりに一貫した電荷を維持するためにアルゴンや他の高貴なガスを組み込んだ統合された不活性ガス雰囲気を備えています。このツールは、温度、ガス混合物、電力レベルなどのプロセスパラメータを監視および調整するための高度な制御も備えています。4ソース構成により、ユーザーは単一のコーティング処理中に異なるスパッタ可能な材料を簡単に交互に使用でき、幅広いコーティング成分にアクセスできます。基板加工に関しては、様々な形状・サイズの平面基板と曲面基板の両方に対応できます。調節可能で簡単に取り外し可能なベルシールを使用して、アセットは均一な材料の流れと一貫した薄膜の結果を保証します。2400はスパッタコーティング機能に加えて、X線蛍光(XRF)やオーガー電子分光(AES)などの高度な分析機能も備えています。XRFはサンプルの表面を化学組成のためにスキャンし、AESはコーティング材料の表面に含まれる分子構造の指紋を提供します。どちらも、研究者が必要に応じてさらなる調査を行い、沈着パラメータを調整することができます。全体として、PERKIN ELMER 2400は、研究施設、研究所、およびその他の産業用途に究極のコーティングソリューションを提供するように設計されており、ユーザーはさまざまなプロジェクトの薄膜材料を簡単に堆積することができます。自動化された制御、幅広い設定、高度な分析機能を備えたこのモデルは、あらゆる実験環境や開発環境のニーズを満たす信頼性の高い汎用スパッタリング装置です。
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