中古 PERKIN ELMER 2400-8L #9193484 を販売中

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ID: 9193484
Sputtering system (3) Cathodes: 8" Sputter configuration: RF/DC Load-lock Turbo pumped Table spacing: Adjustable cathode-substrate Substrate pallet diameter maximum: 6.5".
PERKIN ELMER 2400-8Lは、3つのスパッタリング源を備えたスパッタリング装置で、薄層の効率的かつ均一な堆積を可能にします。試料分析や製造のために様々な材料の薄い層の堆積を必要とする材料研究のために特別に設計されています。このシステムは、グロー放電光放射分光法(GDOES)アプリケーションや異種基板の層の堆積に適しています。このユニットは、RF電源、13。56 MHz RFマッチングネットワーク、3つのスパッタソースで構成された直径8インチのスパッタチャンバーを備えています。RF電源は最大1kWの電力を供給するように設計されていますが、RFマッチングネットワークは5〜12kVの電圧と電流を正確に調整できます。この運動システムは、サンプルキャビティ内径8。3インチの基板を正確かつ再現可能に配置するために、頑丈な構造に取り付けられています。3つの標準スパッタ源は、異なる材料の組み合わせと複数のマグネトロン構成に対応するように設計されています。各ソースには1。675インチのノズル径があり、スパッタ部品を優れた制御を可能にし、直径6インチのステンレス鋼源チャンバーを備えており、焦点を合わせたイオンビーム(FIB)粉砕基板の摩耗を低減しています。スパッタ源から発生する磁場は調整可能で、スパッタの均一性と蒸着速度を高める独自の設計機能を可能にします。スパッタリングプロセスを正確に制御できるように、3チャンネル調整可能なタイマーも用意されています。これらのすべての機能は、成膜および複製可能なプロセスのための卓越した柔軟性と正確な制御を提供します。このマシンは共通のスチールエンクロージャに収納されており、すべてのコンポーネントに最適なアクセシビリティを提供するように設計されています。フロントパネルには、プロセスパラメータやデータ取得に簡単にアクセスできるフル機能の制御/表示ユニットが装備されています。シンプルで簡単なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)により、ユーザーはツールを素早く簡単に設定および監視できます。結論として、2400-8Lは、サンプル分析と製造の両方に薄い層の堆積を必要とする材料研究のための理想的なスパッタリングアセットです。このモデルには、3つのスパッタソースと調整可能なタイマーが装備されており、ユーザーフレンドリーで、成膜および複製可能なプロセスのための優れた柔軟性と精度制御を提供します。
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