中古 OCLI M1044 #293591854 を販売中
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ID: 293591854
Sputtering system
Vacuum chamber with (4) sputtering sources
(4) PFEIFFER Turbo molecular pumps with power suppliers
(2) ADVANCED ENERGY Pinnacle Ion gun, 12 kW
(3) DC Engines
(3) Drives
(6) DC Power supplies: (3+3) Master (20 kW) / Slave (10 kW)
(2) MDX Sparc-LE 20, Si target: (1+1) Master / Slave
(2) MKS 647B Multi gas controllers
(3) MAGNETRON Sputter cathodes
(20) Metal holders, 18 x 139 cm
(4) Silicon targets
(3) Niobium targets
Zirconium
HONEYWELL PLC
MKS Stabil-Ion Controller
GRANVILLE PHILLIPS Series 370 Vacuum sensor
GRANVILLE PHILLIPS Vacuum gauge
MKS Mass Flow Controller (100 to 1000 SCCM)
(2) Bias voltage sources
Bias voltage suppliers
VAT Gate and actuators
(3) MDX Display
(2) Pinnacle Display
(2) Computers
Monitor
Frame
Spare parts.
OCLI M1044は、高度なマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に使用される高度な堆積装置です。このシステムは高品質のスパッタリングが可能で、オプトエレクトロニック、MEMS、集積回路（IC）生産など、さまざまな用途で使用できます。ユニットは高度なコンポーネントで構築され、優れた性能を提供しています。機械は、材料の薄膜を作業基板に堆積するために使用されるマグネトロンスパッタリング源で構成されています。ソースは、ターゲット直径が2〜8インチの優れたスパッタリング結果を得るために設計されています。さらに、このツールには温度制御が装備されており、蒸着プロセス全体で温度が一貫していることを確認します。このアセットには、回転可能な基板ホルダーとRF支援も備えており、最高品質の沈着結果を保証します。さらに、M1044は部品の迅速かつ簡単な設置とメンテナンスを可能にするプロセスチャンバーで設計されています。これは、迅速かつ効率的な生産のために重要です。OCLI M1044の他の特徴は、優れた沈着率、優れた均一性、高収率、および小さなフットプリントです。アスペクト比の高いエッチングが可能で、ナノスケール機能の作成にも使用できます。さらに、このモデルには高度なコントロールがあり、ユーザーがプロセスパラメータを調整するのに役立ちます。M1044は、高品質な製品を生み出す先進的な機器です。その高度なコンポーネントと機能により、ユーザーは迅速かつ正確にナノスケール機能を生成することができます。これにより、MEMS、高度なオプトエレクトロニクス、IC生産など、さまざまなアプリケーションに最適です。このシステムは信頼性が高く、効率的で、さまざまな生産ニーズに適しています。
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