中古 NRC / VARIAN 3117 #171831 を販売中
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ID: 171831
Thermal evaporator
Diffusion pump with liquid nitrogen trap and mechanical pump
Large Bell Jar with implosion guard and electrically actuated hoist
No crystal monitor and no ion gauge meter.
NRC/VARIAN 3117は、薄膜蒸着プロセスで使用されるスパッタ装置です。クローズドループDC電源システムであり、0Vから-700Vまで幅広いDCバイアス電圧を生成することができます。このユニットには、手動および自動スパッタリング制御、高圧DCスパッタリング、ハイレートスパッタリング、超高レートスパッタリングなど、さまざまな機能が搭載されています。機械はまたアルミニウム、チタン、金、および銅を含むさまざまな材料のために、形成することができます。このスパッタリングツールは、低圧ガス、典型的にはアルゴンまたは窒素で満たされた真空チャンバーで動作します。ガスは電子ビーム真空源によって生成され、送風機ファンによってチャンバーを通して循環されます。このガスはチャンバー内の安定した雰囲気を維持し、チャンバー壁の表面に堆積物が蓄積するのを防ぐのにも役立ちます。チャンバー内では、回転するマグネトロンを使用してイオンを生成し、サンプルに送ります。サンプルは通常、スパッタリング処理中に上下に移動して回転させることができる基板ホルダーに配置されます。また、ホルダーを加熱して、サンプルに層でスパッタされた材料が基板によく付着するようにします。マグネトロンへの電源は手動で設定することも、スパッタリングプロセスを自動化するためにコンピュータ制御プログラムを使用することもできます。いずれの場合も、マグネトロンを通過する電流を測定し、イオン爆撃の速度と強度を調整するために使用されます。これにより、スパッタリングプロセスを正確に制御できます。NRC 3117スパッタリングアセットはまた、プロセスを監視するための便利な方法を提供します。内蔵のビデオカメラとモニターは、スパッタリングプロセスのリアルタイム表示を提供します。さらに、集積回路ソフトウェアとハードウェアにより、蒸着プロセスの品質を正確に測定できます。全体的に、VARIAN 3117スパッタリングモデルは、薄膜の正確な堆積のために設計されています。その機能、柔軟性、およびモニタリング機能の範囲は、様々な堆積アプリケーションに最適です。
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