中古 NORDIKO 3000 #293743041 を販売中

NORDIKO 3000：薄膜成膜のための高度なスパッタリング装置3000は、さまざまな基板上の薄膜の正確な成膜のために設計された最先端のスパッタリングシステムです。最先端の技術を取り入れ、エレクトロニクス、光学、マテリアルサイエンスなど幅広い分野で高性能スパッタ機能を提供します。主な機能とコンポーネント：1。マグネトロンスパッタリング源：NORDIKO 3000には、磁気的に強化されたプラズマを利用してターゲット材料を基板上にスパッタする複数のマグネトロンスパッタリング源が装備されています。これらのソースは、広い表面領域にわたって高いフィルム品質と均一性を達成するために不可欠です。2.基板ホルダー：このマシンは、さまざまなサイズと種類の基板に対応できる汎用性の高い基板ホルダーを備えています。蒸着プロセス中の基板温度、回転、位置決めを正確に制御し、最適なフィルム特性を保証します。3.ガス配送ツール：3000には、スパッタリング中のガス組成と流量を正確に制御できる高度なガス配送資産が装備されています。これにより、カスタマイズされた特性を持つ複雑な多層膜の堆積が可能になります。4.真空チャンバー：NORDIKO 3000の真空チャンバーは、スパッタリングプロセスに不可欠な超高真空条件を維持するように設計されています。これは、クリーンで安定した堆積環境を確保するための高度なポンプシステムと圧力監視ツールが装備されています。5.電源・制御モデル：電源・電圧・蒸着速度などのスパッタリングパラメータを正確にチューニングできる最先端の電源・制御システムを搭載。この制御ユニットは再現性のある結果を保証し、プロセスの最適化を容易にします。6.オートメーションとソフトウェア：3000は高度なオートメーション機能と直感的なソフトウェアインターフェイスを備えており、操作とデータロギングが簡単です。ユーザーはカスタム蒸着レシピを作成し、リアルタイムでプロセスパラメータを監視し、蒸着結果を効率的に分析できます。アプリケーションと利点：NORDIKO 3000は、以下を含むがこれらに限定されない幅広い薄膜成膜アプリケーションに適しています。 -半導体デバイス製造-光コーティング-耐摩耗性コーティング-太陽電池製造-磁気記憶媒体製造このマシンは、次のような多くの利点を提供しています。 -高い蒸着速度とフィルム品質-膜厚と組成を優れた制御-広い基板領域にわたる均一なコーティング-幅広いターゲット材料との互換性-生産規模の製造のスケーラビリティ全体として、3000は先進技術と汎用性と信頼性を兼ね備えた最先端のスパッタリングツールです。その高性能機能は、精密な薄膜蒸着を必要とする研究および産業用途にとって貴重なツールとなります。