中古 NEXX / TEL / TOKYO ELECTRON APOLLO XP #9137393 を販売中
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販売された
ID: 9137393
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2014
PVD System configured for manual tray processing, 6"
Manual front end
Load lock degas with (1) roughing pump
Deposition chamber capacity for 5 magnetrons
lOkW power supply
(2) 8" Cryo pumps
M4 Magnetron for Au, Ti, TiW and Pt
Ni Loop Magnetron for Ni
SECS/GEM
2014 vintage.
NEXX/TEL/TOKYO ELECTRON APOLLO XPは、材料の薄膜を基板上に堆積させるスパッタリング装置です。このシステムは、ポンピングユニットを備えた真空チャンバー、スパッタ成膜材料の供給源、および基板ホルダーで構成されています。ポンピングマシンは、スパッタ蒸着プロセスのための環境を準備するために、チャンバーから望ましい真空レベルにすべての空気を排出するように設計されています。2段階のターボ分子ポンプを使用して、望ましい真空レベルを達成するのに役立ちます。一度避難すると、チャンバーは窒素ガスでパージされ、堆積プロセスのためのクリーンで安定した環境を提供します。スパッタ蒸着材料のソースは、通常、金属または合金の薄い層であり、その後、蒸発して基板に堆積されます。材料のソースは、通常、チャンバー内のるつぼの内部に含まれており、その後、材料を蒸発させるために高温に加熱されます。蒸発すると、材料はマグネトロン源によってるつぼから排出され、そこで電流を使用して磁場を作り出します。この磁場は、るつぼから蒸発した物質を排出し、それが基質全体に噴霧する原因となります。工具の最後の部品は基板ホルダーで、基板を所定の位置に保持し、材料の正確かつ一貫した堆積を可能にするために使用されます。基板は通常、ステンレス鋼または銅で作られた治具によって所定の位置に保持されます。この治具は様々な基板に対応できるように設計されており、材料の精密な堆積を容易にします。これらの3つのコンポーネントは、TEL APOLLO XPアセットを形成し、組み合わせた場合、材料を基板に堆積させる効果的で信頼性の高い手段を提供します。金属・合金材料の薄膜を高精度かつ再現性のある成膜が可能です。光学コーティング、半導体加工、医療機器製造など、幅広い用途に最適なツールです。
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