中古 NEXX SYSTEMS Nimbus 314HP #9263222 を販売中

NEXX SYSTEMS Nimbus 314HPは、研究開発用に設計された完全な膜スパッタ装置です。その主な特徴は、複数のフィルムまたはレイヤーを同時にスパッタする機能であり、比較的広い領域での蒸着速度と膜厚の高い制御を維持することです。汎用性の高いNEXX高速チャック（NC）に基づいて構築されたニンバス314HPスパッタリングシステムは、効率的で迅速かつ正確なフィルム蒸着のための高度な設計を提供します。その洗練された設計、材料、および操作方法はすべて協力して、そのクラスの他のシステムよりも高いエネルギー蒸着速度と高速プロセス時間を可能にします。NEXX SYSTEMS Nimbus 314HPは、他の同等のシステムとは異なり、イオンビームエッチングを利用して、フィルムやレイヤーをスパッタリングする際の高い制御を実現していません。Nimbus 314HPは、スパッタリングフィルムやレイヤーに最適なさまざまな機能を備えています。高密度のRFプラズマ源を持ち、より高いプラズマイオン化密度を可能にし、膜の沈着を促進します。それはまたフィルム配分を保障するのを助ける大きいターゲット荷を積まれたコイルの設計を備えています。さらに、蒸着速度を微調整することで、広い領域での高精度かつ再現性のある蒸着が可能になります。この精密制御は、ユニットの高安定性プロセスチャンバーの利点でもあり、サンプル表面全体に均一な蒸着が保証されます。さらに、NEXX SYSTEMS Nimbus 314HPは、マシンの動作をプログラミングおよび監視するための完全なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を含む、ユーザーフレンドリーであるように設計されています。これにより、ユーザーは堆積率を監視および調整し、膜厚を監視し、堆積目標を設定し、将来の使用のためのプロセスプロファイルを保存することが容易になります。結論として、Nimbus 314HPは、広範囲にわたって高精度で均一なフィルムと層を生成することができる高性能スパッタリングツールです。高密度RFプラズマソース、ターゲット負荷コイル設計、高安定性プロセスチャンバー、フルグラフィカルユーザインタフェース（GUI）などの機能により、研究開発アプリケーションに最適です。