中古 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #9288402 を販売中
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販売された
ID: 9288402
ウェーハサイズ: 4"-6"
PVD System, 4"-6"
Controller upgraded
Power supply: 10 kW
(3) PVD chambers
(1) Etch chamber
Ultra high vacuum system
Atmospheric wafer handler
Electronics and control system
Wafer standard: SEMI
Wafer handling: Standard wafer handling of fragile wafers
Chamber 1:
ICP
Power supply: RF Generator
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: Stainless steel
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 2:
Titanium Nitride (Ti/TiN)
Process kit type: TiN (RMX-10)
Target type: Solder Bnd
Cathode type: RMX-10
Power supply: 10 kW
Tap setting: 3
T/S Spacing, 2.5"
Ar Entry: Door injection
Regas type: N2/1000 sccm
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: SS Plasma spray
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 3:
Aluminium (AlCu)
Process kit type: Al (SPA-10)
Target type: Single piece
Cathode type: SPA-10
Power supply: 20 kW
Tap setting: 2
T/S Spacing, 2.0"
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: Stainless steel
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 4:
Molybdenum (Mo)
Process kit type: Mo (RMX-10)
Target type: Solder bond
Cathode type: RMX-10
Power supply: 10 kW
Tap setting: 2
T/S Spacing, 2.5"
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shield s
Shield treatment: SS Plasma spray
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Standard chamber configuration:
8F Cryo pump
MKS Mass flow controllers
RGA Valve set: V4 Conflat
(3) Position gate valves
Non-contact backplane heaters
Frontplane: S/F Vent
Pod shields
Mainframe options:
Wafer holders with ceramic latches
Edge exclusion: 1.5 mm
Laminar blowers
Filters
SECS/GEM Communication
Wafer mapping control
Clamp rings:
Full face
Stainless steel
Facilities options:
Line frequency: 208 V
Line voltage: 60 Hz
Power rack cable length: 30 ft
Cryo compressor lines: 30 ft
Bottom feed utility lines
Other options:
Manuals
OEM Controller
Alignment tools
System shields: ICP, Ti, AICu, Mo
(5) Clamp ring wafer holder assemblies
Bell jar assemble.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IVは、マテリアルサイエンスで使用される全自動スパッタリング装置です。薄膜成膜、表面改質、ナノアーキテクチャ加工などのin situアプリケーション向けに設計されています。このシステムは、フィルムの蒸着速度、プロファイル、厚さを正確に制御できる高度なスパッタリングガンを備えています。それはまた基質の異なった区域の異なった材料の平行沈殿を可能にする複数のプロセスセクションが可能です。MRC Eclipse Mark IVは、0〜13。56MHzの周波数範囲の高出力RF/DC電源を使用します。このユニットは、1〜1,500 Wの利用可能な電力範囲を有しています。複数のスパッタリングゾーンは、各ゾーンごとに異なるフラックスを持つ基板のさまざまな部分に堆積することを可能にします。スパッタリングガンは、円筒形のマグネトロン源を使用し、ソースの周りのイオンの蓄積を防ぐために衝突シールドが装備されています。ロードロックユニットは基板搬送用で、大型基板の迅速な加工が可能です。このマシンは、スパッタリングガンの動作と動作を制御するために、精密プログラマブルロジックコントローラ（PLC）でプログラムされています。PLCは、プロセス制御を最適化するようにプログラムすることができ、ユーザーに所望のフィルム特性を迅速に取得するための効率的なプラットフォームを提供します。さらに、荒削りとターボ分子ポンプを備えた真空チャンバーを備え、超高真空と簡単な操作を可能にします。TEL Eclipse Mark IVには、高度な監視および制御システムを備えた高度なハードウェアもあります。これらのシステムは、蒸着プロセスの圧力、温度、および電力をリアルタイムで監視することができます。これにより、蒸着パラメータを正確に制御し、再現可能なプロセスと信頼性の高いフィルムを提供できます。このアセットには、直感的な操作とモデルの制御を可能にするタッチスクリーンユーザーインターフェイスも備えています。Eclipse Mark IVは、幅広い薄膜蒸着用途向けに設計された最先端のスパッタリング装置です。高精度なモーションコントロールシステム、高度な監視制御システム、ユーザーフレンドリーなインターフェースを備えており、薄膜材料の研究開発に最適です。
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