中古 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #293807041 を販売中

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IVは、スパッタ蒸着プロセスにおいて優れた性能を発揮するよう設計された先進スパッタリング装置です。このシステムは、マルチDC（直流）陰極アーク源を使用して低エネルギーイオンビームを生成し、一貫した層の堆積に最適な環境を作り出します。このユニットは、2つの水平平面運動と高精度のステージ回転、ならびに滑らかなモーションコントロールと統合された自動プロセスレシピを備えています。これにより、高品質のフラットパネルディスプレイ材料や各種光学部品の信頼性の高い均一な厚さ制御が可能になります。このマシンは、高いスループットと低トータルコストのために互いに独立して動作する4つの独立したスパッタソースを備えた10面角いチャンバーを備えています。このツールのプロセス機能は、スパッタ源から+/-90°の基板回転を可能にし、ロードロックは温度制御を可能にし、基板保持精度の向上に重点を置いています。さらに、このアセットはスパッタ源と基板ホルダーの間の優れたセルフアライメントも提供します。Mark IVは、ユーザーフレンドリーなGraphic User Interface （GUI）を使用して、モデルを直感的かつ簡単に操作できます。このGUIは、DC（直流）スパッタ、RF（無線周波数）スパッタ、蒸発、化学蒸着など、さまざまなプロセスをユーザーに提供します。さらに、この装置の高性能クラスタ計算システムは、スループットとプロセスの最適化にも役立ちます。Mark IVの高度なTMFC （Total Mass Flow Control）技術は、スパッタ蒸着プロセス中のスパッタ源の状態とチャンバー圧力を最適化するのに役立ち、スパッタ源間のガス流の相互汚染を低減します。このTMFC技術はまた、バリエーションを最小限に抑えながら、正確なプロセス制御と一貫したフィルム品質を保証します。また、特許取得済みのパルススパッタソース技術を搭載し、効率的かつ均一な成膜とエッチングが可能です。要約すると、MRC Eclipse Mark IVは、優れたスパッタ成膜性能を提供するように設計された最先端のスパッタリングマシンです。マルチDC陰極アーク源、デュアル水平平面運動、TMFC技術、特許取得済みのパルススパッタソース技術などの高度な機能と技術により、FPDおよびその他の光学関連産業における高品質の薄膜蒸着アプリケーションに適しています。