中古 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9238093 を販売中

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipseは薄膜層の製造用に設計されたスパッタ装置です。半導体、化合物、光学薄膜の製造に一般的に使用されています。MRC Eclipseは、サンプル調製のための加熱基板段とオーバーヘッド負荷ロックを備えたシングルステージソース/基板スパッタシステムです。マテリアルズリサーチ株式会社Eclipseモデルには、13。56MHz、 400W、単一周波数、マグネトロンスパッタリング源が搭載されており、希ガスの1〜4cm3/minが流れるように設計されており、より高い目標侵食率を実現しています。ソースは2つの出力セットを提供し、1つ目のパルスは高速スパッタリングを提供して基板の洗浄を強化し、2つ目のパルスは均一なカバレッジを維持しながら、より少ない汚染物質でより均一な層を作成します。Eclipseは、手動モードまたは完全自動モードで動作するように設計されています。自動化されたモードに容易な単位操作を可能にし、ユーザーが自身の調理法を救い、荷を積むことを可能にするコンピュータインターフェイスがあります。コンピュータはまた、スパッタリングパラメータの正確な制御を可能にする、希ガスの圧力と流量などの機械パラメータを監視することができます。MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipseには-150〜+600°Cの活性基板温度範囲があり、異なる材料の酸化やアニールなど、幅広い薄膜蒸着用途が可能です。アクティブ基板ポジショナは、ポジショナーから別のポジショナーへのサンプルのロードも可能で、プロセス実行間でサンプルを簡単に変更できます。MRC Eclipseには、プロセスの再現性を維持し、ダウンタイムを短縮するために設計された多数の機能があります。これは、自動チャンバークリーニングサイクルを備えており、チャンバ内のスパッタ材料の蓄積を最小限に抑えるように設計されています。また、その場で自動化された水晶モニターを備えており、薄膜の厚みと品質を正確に監視することができます。マテリアルズリサーチ株式会社Eclipseは、様々な薄膜成膜アプリケーションのニーズに応える強力なスパッタリングツールです。その再現性、高温範囲、自動化された動作、および高いスパッタ率により、信頼性と費用対効果に優れた蒸着資産となります。