中古 MRC Mark II #9269893 を販売中

MRC Mark IIは、MRC Technologiesによって開発され、幅広い業界や用途で使用されているスパッタ装置です。スパッタリング、薄膜蒸着、熱蒸着が可能なマルチコンポーネント蒸着システムです。Mark IIは、目的の最終用途に応じて、さまざまなスパッタリング陰極、ターゲット材料、サイズに対応できます。周囲圧力を備えたクローズドループユニットで、幅広いプロセスパラメータを維持できます。MRC Mark IIは、耐久性と耐薬品性に優れた6 mm厚ステンレス製のチャンバーと、蒸着プロセスの監視を支援するシャッター付きの2つの0。5インチ厚クォーツビューポートを備えています。基板ホルダー付きの回転シャトルにより、プロセスモジュール間の移動が容易になります。高度な多段式ろ過機は、プロセスチャンバーの汚染を防ぎ、スパッタされたターゲットを酸化から保護します。マークIIは、真空または大気の両方で多層蒸着を行うことができます。そのリフターは不均一なサンプル表面に均一な堆積を可能にし、その可変電源はイオンエネルギーを正確に制御し、金属、酸化物、窒化物を堆積させる能力を与えます。プラズマ電源はイオン爆撃とスパッタ速度を制御し、12位置のロータリーテーブルはプロセス間でサンプルを素早く転送します。MRC Mark IIはまた、堆積例の様々な組み合わせで使用する能力を持っています。例としては、RF/DCスパッタリング、マグネトロンスパッタリング、イオンビームスパッタリング、物理蒸着、熱蒸発などがあります。例えば、IBS-RFスパッタリングツールにチャンバーを形成するために、様々な蒸着源と組み合わせることができます。最新の制御および監視機能には、リアルタイムプロセスおよび温度監視、プロセス診断、および可変ガスパージレート制御が含まれます。これにより、プロセス全体を正確に監視し、高品質の薄膜を実行するためのパラメータの再現性を確保できます。Mark IIは、さまざまな用途や材料の薄膜成膜を必要とするラボや生産設備に最適なソリューションです。