中古 MRC Eclipse #9144779 を販売中

MRC Eclipseは、幅広い用途向けに設計された高度なスパッタリング装置です。各種基板配向でスパッタ制御加工が可能な独自の特長を兼ね備えており、薄膜の高精度コーティング成膜に適しています。Eclipseは1000 Wまでの非常に高いパワーを提供することができ、超高レートの金属の沈殿を可能にします。また、反応性スパッタリング機能も備えており、金属酸化物や窒化物などの先端材料の堆積を可能にします。このシステムは、電気エネルギー源、ガス制御ユニット、真空チャンバー、電源で構成されています。エネルギー源は、高出力と優れた制御を可能にする電子ビーム源であり、ガス制御装置は不活性ガスと反応性ガスの供給を可能にします。真空チャンバーは、高速かつ効率的な処理のための高度な熱管理システムを利用して、硬化ステンレス壁で設計されています。MRC Eclipseは、従来のスパッタリングシステムと比較していくつかの利点を提供します。これは、優れたフィルム接着特性、およびターゲット浸食とプロセスの均一性の精密な制御と高レートの蒸着を提供します。また、反応性スパッタリングを可能にし、先端材料の堆積を可能にします。さらに、極端な温度で高い蒸着率と優れたフィルム特性を提供します。Eclipseは、さまざまな業界で使用するために設計されており、非常に高品質な結果を迅速かつ効率的に生産することができます。MRC Eclipseは、高度に均一なコーティングと精度と柔軟性を提供する能力により、さまざまなニーズに最適なソリューションです。