中古 MRC 943 #9199346 を販売中
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ID: 9199346
Sputtering system
Compressor
Mech pump
System hardware:
MRC Load lock assembly
CTI CT-8 Cryo pump:
Load lock
Process chamber
(3) SIERRA Scientific planar 5"x15" cathodes
(3) Target shielding sets
ADVANCED ENERGY MDX-10 DC Power supply: 10 kW
MRC Hivac valve
With MRS throttle valve assembly
(3) MKS MFC
MKS 390 Baratron assembly
MRC Hydraulic system
ENI OEM-12A RF Generator
ENI Matchwork 10 RF Matching unit
Rack hardware:
GOULD / MODICON PLC Controller
GP-303 IG Controller
MKS 252 Throttle valve controller
MKS 247 MFC Controller: 4 Channels
(5) GP-275 Convectrons
TCR DC Voltage power supply (MRC Rail bias).
MRC 943は、薄膜コーティング用途の研究開発に使用される高度なDCマグネトロンスパッタリング装置です。これは、大規模で信頼性の高いマグネトロン銃と広範な蒸着速度制御機能を備えています。このシステムには、高度な高周波共振キャビティプラズマ発生器が装備されており、蒸着チャンバ内の均一なプラズマを確保し、性能と精度を向上させます。943には、最大4つのターゲット材料を同時に組み込むことができるマルチチャンバー構成が含まれています。MRC 943の統合されたプロセス制御ユニットは、パワーレベル、ガス流量、ガス圧力を簡単に調整する機能など、プロセスパラメータのクローズドループ制御を備えています。このマシンは、スパッタコーティングのステップシーケンスの広い範囲を実行するだけでなく、正確かつ再現性のある蒸着結果を確保するために、露出を監視し、調整する機能を提供します。さらに、オンボード冷却ファンは、動作温度を低減し、ツールの信頼性と寿命を向上させるのに役立ちます。高精度で多数の基板に堆積を行うために、943には2つの独立したカソードが含まれており、平面または円柱磁場のいずれかを選択するためにリモートで調整することができます。この機能により、幅広い基板サイズと形状にわたって電子フラックスと均一な蒸着を正確に制御できます。アセットは、時間とエネルギーを節約するためのプリセットコーティングレシピを含む、使いやすい制御傾斜ディスプレイから操作されます。また、トラブルシューティングのための自動終了診断機能も備えています。さらに、堆積圧力、温度、プロセスパラメータなどの情報を表示するビジュアルインターフェイスを使用して、堆積プロセス全体を監視し、リアルタイムでレシピを調整できます。MRC 943には、レシピの読み込み、堆積制御および監視、フィードバックおよび報告のための包括的なソフトウェアパッケージが含まれています。並列に複数のMRCシステムを制御する機能、データロギング機能、プログラム可能なハードウェアなどの追加機能もサポートされています。要するに、943は強力で使いやすく、信頼性の高いスパッタリングモデルであり、高精度で迅速な蒸着を提供し、プロセス全体を正確に均一に制御します。これは、研究室、科学研究室、および産業プロセスに最適です。
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