中古 MRC 943 #293703391 を販売中
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ID: 293703391
Sputtering system
Qty / Make / Model / Description
(4) / Granville Phillips / 316 / Vacuum gauge controller
(2) / Varian / 880RS / Vacuum ionization gauge
(10) / SELAC / XT206 / Timer
(2) / MKS / Analog Type 260 / Gas needle valve
(2) / MKS / Display Type 261 / MAS Flow meter
(2) / Varian / - / Diffusion pump
(5) / Assembled / Assembled / Target gun
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target -Titanium
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target -Iron
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target -Cobalt
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target - Chromium
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target - Aluminium
(1) / Advance Energy / MDX-1K / RF Generator
(1) / Advance Energy / MDX-5K / RF Generator
(2) / Assembled / Assembled / Vacuum chamber
(2) / ADWARDES / 40-2Satges / Vacuum pump, (40-2 Satges)
(1) / Assembled / Assembled / Step down stablizer, (110-3 Phase)
(2) / Assembled / Assembled / Electric panel.
MRC 943は、マテリアルズリサーチ株式会社が製造するスパッタリング装置の一種です。マルチソースシステムであるため、いくつかの異なるタイプの薄膜を基板に堆積することができます。943は、基板にコーティングを堆積するためにマグネトロンスパッタリングプロセスを利用しています。MRC 943には18インチの6ステーションのスパッタリングチャンバーがあり、複数のスパッタガンに対応するように設計されています。チャンバーには、10〜4ミリットルのベースプレッシャーを備えた高真空ユニットが装備されています。強力なターボ分子ポンプとプログラム可能なガス制御機械を使用すると、チャンバーは10〜6ミリトールの圧力に達することができます。無線周波数（RF）電源は、6つのスパッタガンのそれぞれに20ワットの電力を供給し、密接に制御された薄膜蒸着を可能にします。スパッタリングガンは、タングステン、タンタルまたは他の不活性非破壊スパッタリングターゲットが装備されています。堆積するコーティングは、単一のプロセスに堆積することができ、または異なる特性を持つ多層コーティングを作成するために複数のターゲットを使用することができます。943のリニアロボットアームは、コーティングプロセスの完全な自動化を可能にし、基板全体にスパッタコーティングすることができます。スパッタリングに加えて、MRC 943はアニールや彫刻用途にも使用できます。アニーリングプロセスにより、放射アニーリングが可能となり、基板上に堆積した薄膜の均質アニーリングが可能となります。彫刻プロセスは、集積回路の基板上に狭い溝を作成するために使用されます。943はまた、大きなカラーモニターと直感的なプログラマブルロジックコントローラ（PLC）を備えたプログラマブルコントローラを備えています。MRC 943は、強力なオートメーション制御ツールを内蔵しており、シームレスで自動化された薄膜の成膜を制御および監視することができます。943は高度で信頼性の高いスパッタリング資産であり、究極の精度で薄膜を堆積することができます。マルチソース機能により、さまざまなアプリケーション要件に対応する幅広い機能を提供します。MRC 943は理想的なスパッタリングモデルで、比類のない性能と信頼性を提供します。
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