中古 MRC 903A #9038716 を販売中
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ID: 9038716
Sputtering system
(3) DC Targets
10 kW Magnetron DC supply
RF Etch
Load lock
Mechanical pump
CTI 8 On-Board cryo pump
CTI On-Board compressor
MKS Digital MFC.
MRC 903Aは、薄膜アプリケーション用の基板に薄膜を堆積させるために設計されたスパッタ装置の一種です。回転可能なスパッタヘッドを内蔵した多機能ベースユニットと、高出力RFおよびDC電源を備えたハイスループット設計です。RF電源を使用してRFマグネトロンスパッタリングガンを駆動し、DC電源を使用して高密度プラズマフォーカスターゲットを駆動します。スパッタヘッドはX-Y-Z方向で調節可能で、広い領域で優れた均一性を提供します。このシステムは、2つの材料と同時にスパッタリングするためのデュアルソース真空チャンバーを使用しています。デュアルソースチャンバーには2つの独立したチャンバーがあり、それぞれに独自の回転スパッタヘッドが含まれています。基板の積み下ろしには、サンプルロードロックチャンバーが付属しています。903Aには、注文した分子アレイを堆積するために使用できるオプションのLangmuir-Blodgettトラフもあります。MRC 903Aは、幅広いプロセス監視および制御機能を備えています。ガスフローコンピュータは、プロセス圧力を調整し、スパッタ材料とAr+の比率を監視するために使用されます。このユニットには、O2やN2などのプロセスガスを監視するための質量分析計と、RF出力を測定するための水晶発振器も装備されています。サンプルの正確な温度制御のために、ペルティエ素子も含まれています。903Aは金属、窒化物および酸化物の薄膜の沈着に使用することができる強力で、多目的なスパッタ機械です。これは、優れた均一性、再現性と信頼性の高いプロセス制御、および安全とプロセス制御のための専用の監視を備えたハイスループットツールです。オプションのLangmuir-Blodgettトラフにより、誘電体、半導体、強磁性材料の幅広い範囲に最適です。
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