中古 MRC 902 #9286004 を販売中

MRC 902スパッタリング装置は、半導体材料加工および研究用途向けに設計された高度な成膜ツールです。これは、放電によって生成されたエネルギーイオンをターゲット材料に爆撃することにより、基板上の薄膜を作成するために使用されます。スパッタリングは、まず真空チャンバー内に気体イオンのプラズマを生成し、電流を誘導します。次に、ターゲット材料をターゲット源から薄い沈殿物として基質にスパッタします。902スパッタリングシステムは、蒸着プロセスを正確に制御し、均一な厚さの精密な薄膜を作成することができます。このユニットには、22のターゲット・ソース構成、複数のスパッタリング源、可変電流密度のスパッタリング源など、さまざまな機能があります。この機械にまた源の操作および精密なターゲット位置のための5軸線のロボットアームがあります。大面積の基板において、高均一層フルカバレッジを実現することができます。MRC 902には、蒸着プロセスをリアルタイムで監視するための高度なプロセス制御ツールがあり、フィルム特性を最適化するために調整可能なパラメータがあります。これらのパラメータには、圧力、真空レベル、温度、プロセスガスフロー、ソース組成、パワーレベル、およびターゲットから基板までの距離が含まれます。このアセットには、効率的な操作のための直感的なユーザーインターフェイスも装備されています。902スパッタリングモデルは製造および研究の適用のための信頼でき、多目的な解決です。精密な制御で均一な薄膜を生成し、高度なデバイス用途に適した優れた基板をメーカーに提供します。その多数の機能とユーザーフレンドリーなインターフェースのため、材料の堆積と研究のための市場で最も人気のあるシステムの一つです。