中古 MRC 902 #9254520 を販売中

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製造業者
MRC
モデル
902
ID: 9254520
Sputtering system (2) Targets clamp-on DC magnetron Pallet, 12" for wafer load / Unload RF Plasma etch Water cooled CTI-CRYOGENICS 10 Cryo pump.
MRC 902は、物理蒸着(PVD)プロセスで一般的に使用されるスパッタリングシステムの一種です。それは2つの6インチか8インチのマグネトロンが付いている高純度、単一または二重端の、冷たい壁、ダイオードスパッタリングシステムです。高エネルギー電子ビームをイオン源として利用し、他のスパッタリングシステムよりも高い沈着率と適合性を実現します。902は、特許取得の「カスケード」バイアス法を使用することにより、広域カバレッジと適合性のために毎分40アングストロームまでのより高い沈着率を達成することができます。また、均一な性能を向上させるために、マグネトロンの圧力、電力、および幾何学的構成を慎重に最適化しています。また、電源は高度な保護回路を使用して高電圧アークなどの異常な性能から保護するように設計されています。MRC 902には、2つの6インチまたは8インチのマグネトロンの結合を可能にする統合された平面チューブ電源が装備されており、シングルおよびダブルエンド動作のデュアル機能を保持しています。この高度な機能により、902は、小型および大型基板を実行する際に、より高いスループットを達成することができます。さらに、複数のMRC 902がマルチチャンバー・システムに搭載されている場合、平面チューブ電源をリモートで制御できます。MRC 902には、中断のないパフォーマンスを提供するために簡単にプログラムすることができるオートメーションメカニズムが装備されており、ユーザーはリセットとプロセス時間を劇的に短縮することができます。これは、プロセスパラメータの調整やデータ取得に使用できる使いやすいグラフィカルソフトウェアインターフェイスによってさらに強化されています。902は、スパッタリング薄膜、半導体デバイス加工、光学コーティング、データストレージ、ディスプレイモニタなど、幅広い用途に使用できるように設計されています。高い信頼性と堅牢性により、航空宇宙、自動車、医療機器製造など様々な産業での使用に適しています。その機能はまた、正確なプロセス制御と柔軟性が必要な研究開発アプリケーションに最適です。
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