中古 MRC 693 #9302975 を販売中

MRC 693はMRCが設計・製造したスパッタ装置です。半導体デバイス、集積回路（IC）パッケージ、光電子デバイス、その他の薄膜アプリケーションの研究開発に使用されています。この高性能システムは、優れた均一性と広い領域に優れたステップカバレッジで薄膜を堆積することができます。693の主なコンポーネントは、スパッタターゲットの線形照明のためのタングステンハロゲンランプが含まれています。RF電源とスパッタリングガン。ガス配分システム；必要な真空ユニット。回転可能な基質のホールダー；そして真空コントローラー。ランプとRF電源は、高品質の薄膜を堆積するために必要なパラメータを正確に制御するために調整可能です。タングステンハロゲンランプは、スパッタターゲットの均一な照明のための放射電力の調整可能な範囲を提供するために、調整可能な電流制御と使用されます。RF電源を使用して、ターゲット材料のスパッタリングに必要なプラズマ状態を基板上に作成します。MRC 693の特徴はガス分配機です。それはスパッタリングプロセスの間に使用されるガスを制御するのに特許を取られたガス注入器を使用します；これは大きい基質上の均一な放出率を保障します。また、高品質のフィルム蒸着を維持するための鍵となる圧力の範囲も広い。さらに、ロータリーベーン真空ポンプを使用して2Mbar以下のベースプレッシャーを実現する統合真空アセットを装備しています。693は、多くの薄膜用途に適した汎用スパッタリングモデルです。それは大きい区域に優秀なステップ適用範囲の薄膜を沈殿させ、優秀な反復性を提供できます。さらに、MRC 693は優れた均一性を提供し、多くのアプリケーションで重要です。その調節可能な変数および調節可能なガスの配分装置はまた異なった適用の範囲で使用することを容易にします。