中古 MRC 643 #9008358 を販売中

MRC 643は、薄膜成膜用に設計された最先端のスパッタリング装置です。このシステムは、均一な厚さと低表面粗さの膜を堆積するために強力なIAD（イオン補助蒸着）法を利用しています。その電源は最大1000ワットの電力を供給することができ、様々な種類のイオンを生成することができます。643は面積あたり180ミリアンペア（mA）の電流を供給することができ、厚い層を持つ高性能フィルムの作成を可能にします。基板ホルダーには革新的なヒーターが装備されており、スパッタリング時に均一で最適な蒸着を保証します。MRC 643の多目的な蒸着成分は、金属、ケイ酸塩、酸化物など、さまざまな種類の膜の蒸着を可能にします。このユニットには掘削機、ターゲットホルダー、RFソースが装備されており、ユーザーはさまざまな堆積パラメータの中から選択することができます。1mTorr （1 x 10^-3 Torr）から最大760 Torrまで動作でき、最大出力は1000ワットです。また、信頼性の高い安全な操作のために設計されており、非接触ドアの閉鎖と緊急停止位置を特徴とする包括的な安全プロトコルを備えています。また、優れたイオン光学系を採用しており、高性能成膜に必要な精密かつ均一なイオン爆撃が可能です。643には高度なオートメーションがあり、基板温度、電源、ガス流量、圧力などのスパッタリングパラメータを完全に自動化できます。他の特徴は容易な操作および急速なセットアップを保障するデジタル制御コンソールを含んでいます；薄膜の沈着を監視する薄膜顕微鏡。超高真空発生用の多孔質イオンポンプです。MRC 643は、さまざまなサイズ、形状、材料のサンプルを含む複数のユースケース用に設計されています。また、フラットパネルディスプレイ、薄膜太陽電池、薄膜発光デバイス、その他多くのマイクロ材料およびナノ材料アプリケーションなど、幅広い薄膜蒸着アプリケーションに適しています。結論として、643スパッタリングアセットは、優れた均一性と再現性を備えた薄膜の製造に理想的なツールです。