中古 MRC 603 #9161023 を販売中

MRC 603は、薄膜成膜に使用される最先端のスパッタ装置です。このシステムは、磁気増強反応スパッタ蒸着（MARS）を利用して、優れた均質性と優れた電気的および光学的特性を有する薄膜を堆積させます。603は、最大5種類の基板の正確な位置決めのための3Dポジショナブル基板ホルダーを装備しています。この高度な基板ホルダーと軸方向マグネトロンを組み合わせることで、各スパッタリング工程で均一なフィルム成長を実現します。スパッタリング源にはコンピュータ制御のパワーレベルもあり、沈着速度、組成、ストレスなど、さまざまなプロセス条件に合わせて調整することができます。MRC 603には、パルスマスフローコントローラとガス混合用の複数のガスラインを利用したクローズドループガスフローユニットがあります。これにより、ガスの組成と純度を正確に制御することができ、また、異なるプロセスガスの迅速なサイクリングを可能にします。ガスフローマシンには、スパッタチャンバー内のガス組成をいつでも監視するRTG（リアルタイムガスモニタリング）ツールも装備されています。603はまた、ユーザーと資産を保護するように設計されている安全機能の数を備えています。これには、緊急停止ボタン、過圧インジケータ、抗コロナモデル、および内蔵のガス漏れ検出およびパージングシステムが含まれます。また、MRC 603は、スパッタチャンバーの外側からプロセスを観察することができる広角視野ポートを備えています。これにより、チャンバーへの扉を開けずに堆積プロセスを監視する便利な方法を提供します。603はまた、ユーザーが遠隔地から機器をセットアップして実行することを可能にするリモートコントロールのユーザーインターフェイスが装備されています。これによりユーザーエクスペリエンスが大幅に向上し、ユーザーは常に堆積プロセスを追跡することができます。全体的に、MRC 603は、優れた均質性と優れた電気的および光学特性の薄膜を堆積するための幅広い機能を提供する高度なスパッタリングシステムです。数多くの安全機能、精密なガス混合、リモートコントロールのユーザーインターフェースを備えた603は、幅広い薄膜成膜アプリケーションに理想的なスパッタユニットです。