中古 MRC 603 #293629525 を販売中

MRC 603は、さまざまな薄膜蒸着用途に使用される最先端のスパッタ装置です。高出力のRFおよびDCマグネトロンスパッタリング源を備えており、金属、誘電体、半導体フィルムの正確かつ一貫した堆積を可能にします。603は、18 「x24」までの基板サイズ、周囲室温から300°Cまでの温度制御、最大3つの独立した堆積源までの幅広い機能を備えており、このシステムを使用してさまざまな材料を堆積することができます。このユニットには、多軸マニピュレータ、Webベースのソフトウェア制御マシン、温度および圧力検出機能、および自動材料およびパラメータの選択も含まれています。さらに、このツールは、堆積物の品質に影響を与える可能性のある衝突、過度の圧力、およびその他の予定外のイベントを防ぐための自己監視です。MRC 603スパッタリングアセットは、最適な薄膜蒸着性能を提供するように設計されています。その大きい反応およびアークの部屋は非常に有効な沈殿を可能にします；その均一性は精密シャッターアセンブリによって更に保障されます。その現場での洗浄機能により、堆積物の品質が一貫していることが保証されますが、モデルの高いスループットにより迅速な生産が可能になります。さらに、603の柔軟性により、レイヤーの組み合わせやマテリアルサーフェスの複雑さに関係なく、すべてのアプリケーションに対応できるようになります。強力で高級なエンジニアリングと高度なソフトウェア制御の組み合わせにより、MRC 603は高品質の薄膜蒸着に最適なツールです。多彩な蒸着源、温度、チャンバーサイズ、および高い蒸着速度、信頼性、多軸マニピュレータにより、603は強力で包括的な機器となっています。高性能導電金属膜から保護誘電体、半導体層まで、さまざまな成膜用途に最適なツールです。MRC 603では、ユーザーは信頼性と効率的な生産だけでなく、さまざまなアプリケーションに対応できる幅広い機能と材料を保証します。