中古 MRC 603 II #293647878 を販売中
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ID: 293647878
Sputtering system
(3) Cathodes
Cryo pump
Gasses: Argon, Oxygen
Wafer configuration:
16 x 3 inches
9 x 4 inches
5 x 5 inches
4 x 4 inches.
MRC 603 IIは、製造会社Oerlikon Leybold Vacuumが開発したスパッタリング装置です。これは、1回の実行で最大4つの異なる材料の反復的な産業処理とスパッタリングのために設計された堅牢なツールです。これにより、薄膜、コーティング、保護コーティングなどの幅広い用途に最適です。MRC 603-IIには、カソード源とターゲットチャンバーという2つの異なるモジュールがあり、どちらも1つの電源に接続されています。これにより、システムをパルス電流と定電流の両方で動作させることができます。カソード源モジュールは、スパッタリングカソード用と加熱基板用の2つのチャンバーで構成されています。ターゲットチャンバーは、最大4つの異なる材料を同時にスパッタするように設計されており、より高速な処理時間のための統合ターボポンプを備えています。603 IIは、高品質で均一な製品を生産することができる非常に効率的なユニットです。その真空制御機械はまた、クリーンな作業環境を確保するのに役立ち、製品が残留粒子の存在によって悪影響を受けないことをユーザーに安心させます。その効率に加えて、603-IIも非常にユーザーフレンドリーです。ユーザーインターフェイスは、ユーザーが個々のニーズに応じてツールをカスタマイズできるように、さまざまな設定で操作が簡単にできるように設計されています。金属やセラミックターゲットなど、用途を拡大するために追加できるオプションのエクストラもあります。全体的に、MRC 603 IIは信頼性が高く効果的なスパッタリング資産であり、幅広い用途に適しています。その使いやすさ、効率性、柔軟性は、その機能の完全な範囲を活用するために探している人の間で人気のある選択肢となります。
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