中古 MRC 602 #9008360 を販売中

MRC 602は温州ケダ真空技術有限公司によって製造された多機能スパッタ装置です。コーティング材の薄膜を基板に堆積させるように設計されています。このシステムは、超高真空ベースタンク、2つのスパッタリングチャンバー、2つのベークチャンバー、およびマルチカラーイーサネット動作ユニットで構成されています。超高真空ベースタンクは、スパッタリングチャンバーとベーキングチャンバーを10-4 Pa未満の真空レベルに事前ポンプするために使用されます。この真空は、独立したチャンバーを作成するためにベースタンクから分離されます。2つのスパッタリングチャンバーには、7層の真空耐性ステンレスバッフルが装備されており、超高真空条件を精密に制御できます。チャンバーには、スパッタリング処理中に加熱/冷却するためのアクティブクーリングマシンも装備されています。デュアルスパッタリングチャンバーには、13位置の高出力マグネトロンスパッタリング源が装備されています。これらのスパッタリング源は、毎分0。05〜10ナノメートルの蒸着速度を生成することができ、基板の精密薄膜コーティングを可能にします。さらに、電源には独立したAC電源が装備されており、高出力と低出力の両方の設定を調整して柔軟性と安定性を高めます。2つのベークチャンバーは、スパッタリング処理中に基板温度を300°Cまで上昇させるために使用されます。これにより、温度の制御が容易になり、スパッタ材料をより多く処理することができます。ベークチャンバーには熱電対フィードバック制御ツールも装備されており、スパッタリングプロセス中のより迅速で正確な温度制御を可能にします。最後に、マルチカラーイーサネット動作アセットを使用してスパッタリングモデルを制御します。これには、スパッタリング源の精密制御、ベークチャンバー温度、および超高真空ベースタンクが含まれます。これにより、ユーザーは特定のニーズを満たすために機器設定を迅速かつ簡単にカスタマイズすることができます。全体として、602は高度で汎用性の高いスパッタリングシステムです。その特徴と精密な制御により、基板上のコーティングの正確な薄膜沈着が保証されます。さらに、超高真空、高出力マグネトロンスパッタリング源、熱電対フィードバック制御システムなどの先端技術を使用することで、優れた性能と信頼性を保証します。