中古 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 98747ASSY9451503-10 #293663534 を販売中

MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 98747ASSY9451503-10スパッタリング装置は、さまざまな産業分野で使用される信頼性の高い効率的な薄膜成膜ツールです。対象チャンバー、加熱源、真空ポンプ、アノード、蒸着チャンバー、基板ホルダー、スパッタリング材で構成されています。ターゲットチャンバーは、スパッタリングプロセスが発生する可能性のある環境を提供するハードウォールチャンバーです。真空ポンプと熱源で構成されており、蒸着室が必要な温度と圧力に達することができます。アノードは、スパッタリング処理を開始するのに十分な電力を供給する電気機器です。沈着チャンバー内では、金属または他の材料が堆積される所望の基板を保持するために基板ホルダーが使用されます。基板を配置すると、スパッタ材料が導入され、チャンバー内の温度が所望の温度に達するまで加熱されます。基板が加熱されると、金、タングステン、チタン、アルミニウムまたは酸化膜などの望ましい材料が基板に放出されます。スパッタ材料は、ターゲット材料から蒸発するか、ガスに噴霧されます。標的材料はチャンバーに配置され、その後正に帯電した原子のビームで爆撃されます。爆弾の原子化の衝撃は、ターゲット材料を基板にスパッタする原子カスケードを作成します。チャンバー内の温度を制御し、金属層または酸化物層の均一な蒸着を実現します。MEIVAC 98747ASSY9451503-10スパッタリングユニットは、精密な薄膜堆積物を迅速、確実、正確に製造することができます。この機械は、望ましいフィルムが正しく堆積されていることを保証する、品質管理の高レベルを製造しています。このツールはまた、薄膜堆積物が適用される速度を微調整することを可能にする、蒸着速度を効率的に変更する機能を提供します。全体的に、ALCATEL 98747ASSY9451503-10スパッタリングアセットは、多くの薄膜成膜アプリケーションに理想的な選択肢であり、優れた性能と信頼性をリーズナブルなコストで提供します。このモデルは、高品質の薄膜堆積物が迅速かつ正確かつ一貫して達成されることを保証します。その結果、光学コーティング、マイクロエレクトロニクスデバイス、マイクロエレクトロニクス包装などの精密薄膜アプリケーションをお探しの方に最適です。