中古 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #9174879 を販売中

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ID: 9174879
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2001
RF Sputtering system, 6" Process chamber ultimate vacuum: ≤2.0E^-6T Process gas pressure range: 0-50mt Process gas flow: 1-200sccm RF: Up: 0-2 kW Down: 0-5 kW Power: 208V, 60Hz, 3 Phase, 125A 2001 vintage.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460スパッタリング装置は、半導体、医療、航空宇宙などのさまざまな産業の基板に使用される高度な真空加工技術です。このシステムは、真空チャンバー、特殊機器、および材料の薄い層で材料をコーティングするために多くのガスを使用します。スパッタリングユニットは、必要な材料を基板に堆積させる方法として、制御された環境と特殊なマスクまたはパターンを作成します。MEIVAC 2460スパッタリングマシンは、ほぼ原子層に精度の高い層やコーティングを作成することができます。工具は真空チャンバーから始まり、ポンプを使用してチャンバー内の圧力を低減します。空のチャンバーは、材料の酸化と点火を防ぐために、アルゴンなどの不活性ガスで満たされています。スパッタリングプロセスは、真空チャンバーに配置されたターゲット材料から始まり、低圧プラズマ放電を受けたときに蒸発され、それに向けられます。標的物質をプラズマストリームで打つと、その分子が基板表面に放出され、材料が薄くコーティングされます。ALCATEL 2460スパッタリングアセットは、生成されたレイヤーの均一性を低減するために、プラズマの微調整を含む高度な制御プロセスを可能にします。このモデルは、基板材料、蒸着速度、接触角、絶縁レベルに最高のチューニング制御を使用します。また、スパッタコーティングと接触伝達技術を組み合わせて高度なパターンを作成することも可能です。また、特殊なマスクを使用して、様々な素材と重なり合うパターンを配置します。COMPTECH 2460スパッタリングユニットは、従来の方法よりも高速かつコスト効率的に作成された精密コーティングまたは層で、その性能で非常に信頼性と効率的です。この機械は高品質の層を作成することができ、ナノ電子機器や部品の非常に小さな構造を達成する上で重要な役割を果たしています。さらに、このツールは、ユーザーフレンドリーなデザインとインターフェースのためにメンテナンスが簡単です。全体的に2460スパッタリングアセットは、薄膜加工要件に対応するオールインワンソリューションです。このモデルは、性能に影響を与えることなく、さまざまな基板およびアプリケーションに信頼性の高い費用対効果の高いコーティングを提供します。この高度な設備により、ユーザーは生産サイクル時間を短縮し、歩留まりを改善し、ダウンタイムを削減することができます。
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