中古 MAGNETRON SHS-2M-3-400TL #9221750 を販売中

ID: 9221750
RF DC Sputtering system.
マグネトロンSHS-2M-3-400TLは、さまざまな物理蒸着(PVD)用途向けに設計されたマグネトロンスパッタリング装置です。システムは、2段階のMAGNETRON、 3位置回転ターゲット、直径400mmの平面ターゲットで構成されています。MAGNETRONは、一次ステージと二次ステージからなる2段階の設計です。主なステージは、外部冷却された磁気シールドされた高出力DC放電マグネトロンで構成されています。このタイプのマグネトロンは、金属合金や酸化物などの薄膜材料のスパッタ成膜に最適です。アノードレスファインピッチMAGNETRONは、小さなターゲット領域の制御エッチングまたはスパッタリングに使用されます。ターゲットをサポートする高出力RFソースと平面フランジを備えています。3位置回転ターゲットは、多層スパッタリングとコーティングを行うために使用されます。スパッタリングユニットは、特許取得済みのハイブリッドスパッタリング法を使用して、優れた蒸着速度と均一性を実現しています。直径400mmの平面ターゲットは、より大きな領域の堆積に使用されます。これは、金属合金や酸化物から窒化物や炭化物まで、幅広い材料を堆積することができます。スパッタリングマシンSHS-2M-3-400TL独立したコントロールインターフェイスを備えており、ユーザーはスパッタリングプロセスのすべてのパラメータを制御できます。このツールには、ターゲットの人間工学に基づいた簡単な位置決めのための電動ブームも含まれています。このアセットは、スパッタリングプロセスの汚染を防ぎ、蒸着効率を最大限に高めるために、気密チャンバーに囲まれています。また、安全・安心な運転を実現するインターロック安全装置を内蔵しています。MAGNETRON SHS-2M-3-400TLは、太陽電池、LED照明、ツールコーティング、その他の高度なコーティングなど、幅広いPVDアプリケーションに最適です。このシステムは、高精度、高い蒸着率、および優れた均一性を備えた優れたフィルム特性を提供するように設計されています。高度な技術により、一貫した高品質のコーティングと優れた投資収益率が保証されます。
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