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マグネトロンライン（MAGNETRON Line）は、物理蒸着（PVD）プロセスのクラスに属するスパッタリングシステムの一種です。これらのシステムは、一般的にMAGNETRONと呼ばれる高出力の電磁エネルギー源を使用して、ターゲット表面に蒸気の形で選択的にスパッタ材料を使用します。このエネルギー源は真空チャンバー内に含まれ、堆積物はマグネトロンと真空圧力の結合力によって推進されます。マグネトロンソースは、安定した反復可能なスパッタリングプロセスと高スループットを提供するため、大規模なコンフォーマル成膜およびコーティング用途で非常に人気があります。MAGNETRONラインは、自動車や航空宇宙部品、医療機器部品など、さまざまな産業プロセスでも広く使用されています。MAGNETRONラインは、MAGNETRON電源を使用してスパッタ材料を基板表面に生成および送信します。この高出力電源は真空チャンバ内で交互に磁場を発生させ、基板表面の下に電子雲を形成する一連の下向きのプラズマを生成します。電子は交互磁場によってプラズマ内で加速され、いわゆるイオン誘導標的物質の爆撃が行われる。スパッタされた材料は、電子とイオンの流れによって印加された圧力のために基板に転送されます。MAGNETRONスパッタリングの利点は、MAGNETRONの安定したエネルギー源により、材料の伝達が比較的均一で反復可能であることです。また、高い基板温度でも基板によく付着することができます。この技術は、低温では高温、高温では低温という幅広い堆積率のためにも有用です。全体的に、ラインスパッタリングは、コーティングおよび薄膜蒸着用途に幅広く使用される信頼性と費用対効果の高いコーティングシステムです。材料の薄層を基板に正確かつ再び付けることができ、最終製品が最高品質であることを保証します。