中古 LEYBOLD Star 1000 #293775767 を販売中

LEYBOLD Star 1000は、半導体製造、光学コーティング、材料研究など、幅広い用途で薄膜成膜用に設計された高性能スパッタリング装置です。この先進的なシステムには、最先端の技術が組み込まれており、膜厚、組成、均一性を正確に制御できるため、要求の厳しい薄膜蒸着プロセスに最適です。主な特徴：1。複数のターゲット構成：Star 1000は多彩なターゲット構成を備えており、異なる材料からの同時スパッタリングを可能にします。この機能により、高い反射率または低い放射率を持つ光学コーティングなど、カスタマイズされた特性を持つ複雑な多層膜の堆積が可能になります。2.マグネトロンスパッタリング：このユニットは、スパッタリング効率を高め、従来のDCスパッタリングと比較して低圧での蒸着を可能にするマグネトロンスパッタリング技術を使用しています。マグネトロン源は高いイオン化率を提供し、フィルムの接着性と密度を向上させます。3.基板加熱および冷却：LEYBOLD Star 1000には、フィルムの成長条件を最適化するための正確な基板加熱および冷却メカニズムが装備されています。基板温度を制御することで、結晶性制御や応力管理など、特定の特性を有する膜の成膜が可能になります。4.プラズマエッチング機能：薄膜成膜に加えて、表面洗浄および調製のためのプラズマエッチング処理が可能です。プラズマエッチング機能により、沈着前に基板表面から汚染物質またはネイティブ酸化物を除去し、高品質のフィルム成長を保証します。5.プロセス制御と自動化：スパッタリングツールには、蒸着速度、圧力、電力などの主要パラメータのリアルタイム監視など、高度なプロセス制御機能が装備されています。自動化機能により、成膜プロセスを正確に制御し、フィルム特性の再現性と一貫性を確保します。6.強化された真空アセット：Star 1000には、スパッタリングプロセスに必要なベースプレッシャーを達成するための高性能真空モデルが装備されています。堅牢な真空ポンプと統合されたプロセスチャンバー設計により、クリーンで低汚染の環境での効率的なガスの排出と蒸着が保証されます。7.ユーザーフレンドリーなインターフェース：この機器は、操作と監視を簡単に行うための包括的なソフトウェア制御を備えた直感的なユーザーインターフェイスを備えています。グラフィカルインターフェイスは、ユーザーにプロセスパラメータに関する視覚的なフィードバックを提供し、カスタム堆積レシピの設定を可能にします。8.安全機能：LEYBOLD Star 1000には、複数の安全機能が組み込まれており、オペレータの保護とシステムの完全性を保証します。これらの機能には、真空および電源保護用のインターロック、緊急停止メカニズム、およびユニット状態監視用の内蔵診断が含まれます。全体的に、Star 1000スパッタリングマシンは、精密な薄膜成膜、プラズマエッチング、およびプロセス最適化のための汎用性の高いプラットフォームを提供します。高度な機能と機能を備えたこのツールは、カスタマイズされた特性を備えた高性能の薄膜コーティングを必要とする幅広い研究および産業用途に適しています。