中古 LEYBOLD HERAEUS Z550S #9192875 を販売中

ID: 9192875
Sputtering system With load-lock (5) Cathode positions (4) Cathodes PK150 Heater RF & DC Sputtering.
LEYBOLD HERAEUS Z550Sは、幅広いスパッタリングターゲットを使用して物理蒸着(PVD)を行うように設計されたスパッタリング装置です。カソードアーク蒸着(アークPVD)を使用して、厚さの異なる高純度金属および非金属材料の薄膜を堆積させます。それはまた単層および多層コーティングを製造するのに使用することができます。Z550Sスパッタリングシステムは、半導体グレードのディスプレイや光学コーティングなどの高度な研究および産業用途に使用するために設計されています。LEYBOLD HERAEUS Z550Sは、フィルムアライメントとレイヤーコンフォーマンスを容易にするために、調整可能な角度の4つのターゲットタレットを備えています。スパッタチャンバーは直径6インチ(152 mm)、長さ18インチ(457 mm)で、より大きな面積の基板をスパッタリングするための大きなチャンバー容積を提供します。Z550Sは、直径8インチ(203 mm)、厚さ4 ″ (102 mm)までの基板に対応できます。統合された冷却ジャケットは、ターゲットと基板加熱を最小限に抑えるのに役立ちます。LEYBOLD HERAEUSスパッタリングユニットZ550S、高性能な電子サイクロトロン共鳴(ECR)イオン源を備えています。このイオン源は、従来のRFイオン源(RF-PVD)よりもはるかに均一で均質なイオン爆撃をターゲットと基板全体に提供します。ECRイオン源は、広い基板領域にわたって優れた蒸着速度の均一性を有し、非導電材料や遅い浸食ターゲットなどのあらゆる特殊ターゲットに適しています。Z550Sスパッタリングマシンは、ユーザーが簡単に沈着手順をプログラムし、沈着パラメータを監視することができます高度なプロセス制御ソフトウェアが装備されています。このソフトウェアを使用すると、ユーザーはプロセスデータベースを作成でき、従来の複雑なコーティングプロセスのパラメータを保存およびロードできます。ユーザーは、LEYBOLD HERAEUS Z550Sのコンピュータインターフェイスを介して基板温度を監視および制御できます。スパッタリングツールZ550Sメンテナンスを容易にするように設計されており、その部品は最高の耐久性と信頼性のために高品質の材料から作られています。そのソフトウェアは、フラッシュドライブを介して簡単に更新することができ、アセットはまた、ダウンタイムを最小限に抑えるために、リモート診断およびトラブルシューティングサービスを備えています。その結果、LEYBOLD HERAEUS Z550Sは、研究および産業用途向けの信頼性が高く、手頃な価格で使いやすいスパッタリングモデルです。
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