中古 LEYBOLD HERAEUS Z550MS #293766919 を販売中
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ID: 293766919
Sputtering system
Load lock system
Pumping system
Turbo molecular pump
Vacuum gauge control
D40B Rotary vane pump
IM 110D Ionization vacuum gauge
Flow control for (2) Gases
Substrate load lock
Power switch
Process module
DC Power supply.
LEYBOLD HERAEUS Z550MSは、さまざまな産業および研究用途における薄膜成膜用に設計された最先端のスパッタリング装置です。LEYBOLD HERAEUS社が開発した高性能スパッタリング機能を高精度で制御できる先進技術を搭載しています。Z550MSユニットの中心にはマグネトロンスパッタリング技術があり、基板に高効率の材料を堆積させることができます。マグネトロンスパッタリングは、磁場を使用してターゲット材料の周りのプラズマ密度を高め、より均一で制御されたフィルム蒸着プロセスをもたらします。LEYBOLD HERAEUS Z550MSには複数のマグネトロン源が搭載されており、多様な材料の堆積と複雑な積層薄膜の作成を可能にします。Z550MSは、スパッタリングプロセスにクリーンで制御された環境を提供する堅牢な真空チャンバーを備えています。高品質の薄膜成膜に不可欠な超高真空レベルを実現・維持できる高性能ポンピングツールを搭載しています。真空チャンバーは、汚染を最小限に抑え、フィルム特性の再現性を確保するように設計されています。LEYBOLD HERAEUS Z550MS資産の重要なハイライトの1つは、高度なプロセス制御機能です。洗練された監視制御システムを搭載し、ガス流量、蒸着速度、目標電力、基板温度などのパラメータをリアルタイムで正確に調整できます。このレベルの制御により、均一な膜厚、組成、接着が保証され、堆積した薄膜の品質と性能が最適化されます。また、Z550MSは直感的なソフトウェアを備えたユーザーフレンドリーなインターフェイスを備えており、機器の操作とデータ分析を簡素化します。オペレータは、スパッタリングプロセスを簡単にプログラムおよび監視し、リアルタイムデータを表示し、詳細なレポートを生成して分析することができます。このシステムの自動化機能は、ワークフロープロセスを合理化し、薄膜蒸着アプリケーションの効率と生産性を向上させます。汎用性の観点から、LEYBOLD HERAEUS Z550MSは、特定のアプリケーション要件を満たすための幅広い構成とカスタマイズオプションを提供します。単一基板の研究から大規模生産システムまで、Z550MSはさまざまな基板サイズ、形状、材料に対応するために調整することができます。また、金属、酸化物、窒化物など様々なスパッタリングターゲットに対応しており、幅広い薄膜材料の成膜が可能です。LEYBOLD HERAEUS Z550MSは、信頼性と耐久性を念頭に設計されており、要求の厳しい産業環境での連続運転に適しています。機械部品は高品質の材料から構成され、スパッタリングプロセスの厳しさに耐えるように設計されています。LEYBOLD HERAEUSは包括的なテクニカルサポートとメンテナンスサービスを提供し、ツールの最適なパフォーマンスと稼働時間を確保Z550MSます。結論として、LEYBOLD HERAEUS Z550MSスパッタリングアセットは、薄膜成膜アプリケーションの最先端のソリューションです。高度なマグネトロンスパッタリング技術、堅牢な真空チャンバー、正確なプロセス制御機能、ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、Z550MSは幅広い産業および研究用途において優れた性能、汎用性、信頼性を提供します。LEYBOLD HERAEUS Z550MSは、研究開発や大規模な生産に使用されるかどうかにかかわらず、優れた均一性と再現性を備えた高品質の薄膜を提供します。
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