中古 LEYBOLD Helios 2100 #293601797 を販売中

LEYBOLD Helios 2100は、大面積の基板コーティング用に設計されたデュアルマグネトロンスパッタリング装置です。このシステムは2つの独立したマグネトロン源を備えており、シングルソースのデュアルターゲットシステムよりも高いプロセス柔軟性と高いスループットを提供します。また、半導体、光学、ディスプレイ、パッケージングなど、幅広い材料や用途に対応できます。Helios 2100は、0。5-4。0 kWの電源を備えたデュアルマグネトロン源を使用して、精密フィルム蒸着を行います。統合されたDCマグネトロンスパッタ源には、均一性と再現性のためのプロセス制御が組み込まれており、ユニットには統合されたウェーハ温度監視機が含まれています。ソースは上下に移動して最大3つの基板サイズに対応し、基板間の垂直ギャップを調整できます。このツールには、オンボードプロセスコントローラ、自動操作、10ポイントウェハマッピングアセット、レシピとパラメーター節約機能も備えています。LEYBOLD Helios 2100は、メンテナンスとクリーニングを簡単に行える堅牢なデザインです。エンクロージャは、汚染とダウンタイムを低減するように設計されています。また、DCプラズマソース、RF電源、リアクティブスパッタリング、マルチレベルスパッタリングなど、スパッタコーティング機能を高めるためのさまざまなオプションも提供しています。統合されたパルスDC、中空カソード、および「ツインターゲット」マグネトロンスパッタリング源は、優れた膜均一性と蒸着速度を提供します。Helios 2100は、電力制御、水冷、DCパワーコンディショニングなど、さまざまなプロセス制御および保護機能を提供します。ソフトスタート装置はプラントオートメーションシステムとのシームレスな統合を可能にし、包括的なソフトウェアパッケージにより、PCからプロセスを簡単に監視できます。また、動作条件があらかじめ設定された制限を超えた場合の自動シャットオフなどの安全機能も備えています。結論として、LEYBOLD Helios 2100は、大面積の基板のための強力で信頼性の高いスパッタリングユニットです。優れたフィルム均一性と再現性に加え、安全で効率的な操作を保証する幅広いプロセスおよび保護機能を提供します。