中古 KURT J. LESKER PVD 75 #293778253 を販売中
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ID: 293778253
ヴィンテージ: 2006
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Vacuum chamber with multiple ultra-high vacuum (UHV) ports
CTI 8200 Compressor
CTI CRYO-TORR 8F Vacuum pump
SIGMA INSTRUMENTS SQC-122C Controller
ULVAC Scroll pump
MAPS Electronic Vacuum Processor (EVP) Power supply
MAPS Ion source controller, 3"
(3) Thermal boat
Connecting cable
No electron beam (E-beam) source
No magnetron
Chamber capacity: 75 liters
2006 vintage.
KURT J。 LESKER PVD 75は、薄膜コーティングプロセスを行うために特別に設計されたデスクトップタイプのスパッタリング装置で、低および高レートのアプリケーションに使用できます。これは、ユーザーが高品質の金属、セラミック、複合フィルムを生産するための効果的なプラットフォームを提供しています。このスパッタリングシステムは、真空チャンバ、加工ゾーン、電源、およびさまざまな周辺部品で構成されています。PVD 75の主成分である真空チャンバーは、頑丈なセラミック基板ホルダーによって裏打ちされた金属製のるつぼと窓のアセンブリで構成されています。また、真空チャンバー内の所望の圧力レベルを維持するのに役立つユニークな自動ポンピングユニットも含まれています。処理ゾーンには、コントロールボックスと2つのスパッタリング源を一度に保持するためのターゲットホルダーのペアが含まれています。内部電源はスパッタリング源に正確な電力供給を提供し、生成されるフィルムの種類に応じて調整することができます。KURT J。 LESKER PVD 75は、ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンディスプレイを備えた高度な制御機を備えており、ディレクターはツールのすべての側面を簡単に制御できます。バイアス、パフォーマンスレベル、圧力設定を手動で調整することができます。さらに、プロセスがスムーズかつ効率的に実行されるようにするための高度な診断およびエラー検出ツールも含まれています。アセットもコンパクトで軽量で簡単に持ち運びが可能です。そのため、高品質の眼鏡部品を製造したり、航空宇宙産業や自動車産業向けの部品を製造するなど、低レートと高レートの両方の用途に使用できます。また、さまざまなプロセス制御システムとも互換性があり、コーティングプロセスのより大きなカスタマイズと最適化を可能にします。全体として、PVD 75は、ユーザーがさまざまな薄膜蒸着プロセスを実行するための信頼できるプラットフォームを提供します。ユーザーフレンドリーな制御モデル、自動ポンプ装置、堅牢な設計により、すべてのプロセスを効率的かつ正確に完了できます。幅広い周辺機器コンポーネントにより、ユーザーはプロセスをカスタマイズして最適化することができます。
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