中古 KURT J. LESKER Lab 18 #9050909 を販売中
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タップしてズーム
販売された
ID: 9050909
ヴィンテージ: 2007
Sputtering system, 4"
Single chamber
Single load lock DC/RF sputter
(5) targets
Currently processing 4” wafers, bottom up sputter with IR/Heated sputtering
2007 vintage.
KURT J。 LESKER Lab 18は、ガス放電プロセスを使用して金属などの材料から薄膜を生成するように設計された最先端のスパッタリング装置です。スパッタリングのプロセスは、密閉されたチャンバーにプラズマを作成することから始まります。このプラズマは単にイオン化されたガスであり、その後、アルゴンのような不活性ガスで爆撃されます。その後、脱落した原子は薄膜の形で基板に投影される。したがって、質量、圧力、エネルギーの正確な制御は、フィルムの所望の密着度と均一性を達成するために不可欠です。ここでLab 18は優れています。このシステムは、スパッタリングプロセスの精度を確保するために協力するさまざまな高度な機能を備えています。例えば、ソースチャンバー圧力はデジタル調整可能で、オペレータは特定のジョブに必要な圧力を簡単に調整できます。このユニットはまた、特別なプログラム可能なターゲットヒーターを備えており、運転中のターゲットの過剰摂取を防ぎます。KURT J。 LESKER Lab 18には、それを際立たせるさらに多くの機能があります。機械には広範な安全プロトコルが組み込まれており、例えば、安全な動作環境を確保することで爆発を防ぐように設計された酸素モニターがあります。また、オペレータがスパッタリング処理をリアルタイムで観察できるように、ライブビューCCTVカメラを備えた高度な監視アセットも備えています。最後に、Lab 18はユーザーの要求に従って構成することができ、ターゲット基板のサイズと形状、および使用されるターゲット材料に関して柔軟性を可能にします。要するに、KURT J。 LESKER Lab 18は、薄膜の製造において精度と精度を向上させるために設計された高度なスパッタリングモデルです。安全性と操作効率を確保するために設計された多数の機能を備えたLab 18は、信頼性が高く使いやすいスパッタリング装置をお探しの方に最適です。
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