中古 KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300 #9173159 を販売中

KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300は、薄膜コーティングと高度な研究用途の両方に設計されたスパッタリング成膜装置です。このシステムは、高出力のダイオード式スパッタリング源を利用して薄膜を堆積させ、優れた均一性と高い蒸着率のコーティングを実現します。ユニットの「Source to Wafer Distance （SWD）」は調整可能で、最適な成膜条件のために、ターゲットと基板の距離のさまざまな構成を可能にします。このPVD-1300はまた、電子源に低エネルギー電子爆撃機（LEBS）を備えており、正確に制御されたエネルギーレベルで高出力の電子ビームを提供することができます。このツールは、ほぼすべてのガスとの使用に適しており、資産内のガス圧力を制御する機能を提供します。スパッタリング成膜機能に加えて、PVD-1300には高度な温度制御システムが装備されています。その暖房および冷却源は10から300ºCまで調節可能であり、それらは基質の温度を安定した、均一保つことができます。消費者は、PVD-1300の自動圧力制御モデルを使用して、チャンバー内で一定の動作圧力を維持することもできます。KOREA VACUUM TECH PVD-1300は、スパッタリングプロセスの設定とパラメータへのアクセスを提供する直感的な制御装置を備えています。これは、10までの事前設定された動作条件を格納することができ、すぐに使用するためにシステムをセットアップする科学者を支援します。PVD-1300はまた、操作中の安全性を確保し、ユニットまたはそのコンポーネントへの損傷を防ぐために、その自動シャットダウン機能などの監視システムの数を提供しています。PVD-1300は、極めて精度の高い薄膜の成膜を可能にするように設計された強力で信頼性の高いスパッタリングマシンです。調整可能なSWDおよび温度制御システムは、最適な成膜条件を提供し、自動圧力制御ツールは一定の動作圧力を維持する利便性を提供します。PVD-1300はまた、安全な動作を確保するために、事前に設定された動作条件と安全監視システムを備えています。KOREA VACUUM TECH PVD-1300は、その強力な機能と正確な制御により、薄膜コーティングと高度な研究用途に最適です。