中古 JM IOTA #129082 を販売中

JM IOTA
製造業者
JM
モデル
IOTA
ID: 129082
Sputtering target for sputtering systems Al / Cu, 1.5% 5N purity.
JM IOTAは、薄膜と厚膜の両方を堆積するように設計されたスパッタ装置です。システムは2つのプロセス部屋から成っている二重マグネトロンスパッタリングユニットです;薄膜成膜に使用されるものと厚膜成膜に使用されるものがあります。各チャンバーには、独自の陰極、電源、プレナム、RFマッチが含まれています。超高真空(UHV)マシンは、チャンバーの清潔さを維持するために、ツールに組み込まれています。これにより、幅広い材料を堆積させることができます。薄膜成膜チャンバーは、より小さな基板や、高純度、均一性、低粒子汚染を必要とする用途に使用するように設計されています。高貴な金属、合金、ポリマーからの材料を、サブモノレイヤーから数百ナノメートルまでの幅広い厚さで堆積することができます。厚膜成膜チャンバーは、通常、数百ナノメートルから数ミクロンの厚さまでの材料の厚い層を堆積するために設計されています。金属酸化物、窒化物、炭化物はすべてこのチャンバーに堆積することができます。チャンバーは合金材料の堆積を可能にするためにも適応可能です。どちらのチャンバーも温度制御システムを調整可能であり、幅広い材料に対して蒸着速度を正確に制御することができます。これにより、均一で反復可能なコーティングをさまざまな基板に一貫して適用することができます。IOTAは、通常の蒸着チャンバーに加えて、ナノコンポジットフィルムの蒸着を可能にする化学蒸着(CVD)アセットも含まれています。CVDモデルは、無機材料と有機材料の両方のカップル沈着が多機能ナノコンポジットフィルムを作成することを可能にします。全体的に、JM IOTAスパッタリング装置は、薄膜と厚膜の堆積のための非常に汎用性の高いツールです。それを収容できる材料およびプロセスの広い範囲は最小限の汚染の良質のフィルムを作成する機能をユーザーに与えます。
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