中古 INNOTEC VS-24C #9097901 を販売中
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ID: 9097901
RF Magnetron deposition systems
Chamber: 24" dia x 12" H
Dual 19" instrument rack
CTI Cryo-Torr 8 cryopump
Side mounted
High conductance valve
CTI 8300 Compressor with 8001 controllers
RF Power supply: 2kW Matching system as bias
(1) 14" Magnetron source with R match system and Al2O3 target
MKS Vacuum gauges valve and process control systems
Temperature and thickness control
Electro pneumatically actuated valves
VCS Vacuum system controller
VSC Sense analog and digital signals RS-232
Load lock system not included.
INNOTEC VS-24Cは薄膜コーティング用途に使用される高性能スパッタリング装置です。広い領域に均一な膜を提供するように設計されており、金属、酸化物、窒化物、合金などの幅広い材料に薄膜を堆積させることができます。スパッタガンは、陽極電極、enerVac真空ポート、絶縁コーティング、ターゲットホルダーで構成されています。アノードに高電圧パルスを印加し、ターゲット材料からイオンを通電・生成して基板に向けて加速します。イオンは基板に衝突し、ターゲット材料を薄膜として堆積させます。スパッタガンは、DC(直流)またはRF(無線周波数)モードのいずれかで操作できます。DCモードではイオンは絶えず加速され、RFモードではイオンはパルス方式で加速されます。このシステムは、磁場補助均一プラズマ分布を有する特許取得済みのイオン源を持ち、薄膜の均一性を向上させています。RFの源のサイズはまた薄膜の均一性を更に改善するために適用のサイズそして形に従って調節することができます。このユニットにはロードロックが装備されており、直径8インチ、高さ4インチまでの基板範囲をサポートしています。それに前部か後部ローディングの選択の4"ターゲットホルダーがあります。基質のホールダーは200°Cまで加熱することができます。機械は基質の暖房を減らすために熱制御された壁と薄膜の熱応力を減らすように設計されています。また、極端な電力サージによる資産損傷を防ぐための緊急停止ツールも備えています。VS-24Cはモジュラーモデルであり、プラズマエッチング、イオン洗浄、およびその他のプラズマ関連プロセス用の他のモジュールと容易に統合することができます。自動車、医療、電子業界の薄膜コーティング用途に適しています。
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