中古 HITACHI E-1010 #293604647 を販売中

HITACHI E-1010は、金属や金属酸化物の薄膜蒸着用に設計されたスパッタ装置です。精密マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、ナノテクノロジー、材料科学などの研究分野で広く使用されています。このシステムは、一般的にスパッタリングチャンバーと物理蒸着（PVD）源の2つの主要なコンポーネントで構成されています。スパッタリングチャンバーは、真空圧力が8x10〜5mbar未満の密閉チャンバーです。加工および材料搬送用のチャンバー、回転サンプルテーブル、コリメータ、大型フィルター、固定台座が含まれています。サンプルテーブルは最大5つの4インチ基板を保持でき、350°Cまで加熱できます。コリメータを使用して、スパッタイオンを回転テーブルに配置された基板に集中させます。スパッタリング工程で発生する不安定なガス分子をフィルタリングするために、大規模なフィルターが設置されています。HITACHI E1010のPVD電源は、高圧25AのDC電源と、ガスバルブ付きのN2/O2ガスフィードシステムを搭載しています。PVDソースを使用すると、最大5種類のターゲット材料を同時にスパッタし、数eVから数keVまでの広範囲のスパッタイオンエネルギーを生成できます。アルミニウム、クロム、鉄、金、さらにはシリコンベースの材料のフィルムをスパッタすることができます。E-1010は、回転テーブル上に配置されたすべての基板が均等にスパッタイオンを得ることを保証する「均一なフラックス分布」と呼ばれるユニークな機能を持っています。また、大型チャンバー表面積と冷却水循環を備えた冷却ユニットは、動作中の安定した温度を維持するのに役立ちます。また、漏れ検出、圧力調整、リモコン、データロギングなど、さまざまな安全機能を備えています。結論として、E1010は研究開発活動に最適な優れた機能を備えた高度で信頼性の高いスパッタリングツールです。正確なイオンスパッタリング技術、均一なフラックス分布、温度調節、安全機能により、ユーザーが簡単に研究タスクを実行できる世界トップクラスのプラットフォームを提供します。