中古 HABOR HWT-250 / PSA-15 #293666753 を販売中

ID: 293666753
ヴィンテージ: 2002
Sputtering system 10 L Temperature: 10°C~40°C 2002 vintage.
HABOR HWT-250/ PSA-15スパッタリング装置は、基板上に薄膜を堆積させるために設計されています。半導体デバイスの製造、ウェハレベルのパッケージング、表面改質、研究開発など、さまざまな用途に適しています。システムは、ステンレス鋼で構成され、電源、回転ステージ、コントロールパネルと一緒にポンピングユニットが含まれているメインチャンバーで構成されています。真空は荒削りポンプとターボ分子ポンプの組み合わせによって生成され、最大10ˉ¹ mbarの真空を提供します。蒸着プロセスは、マグネトロンrfスパッタリング源によって実現されます。対象材料を所望の温度に加熱し、基板上にスパッタします。ターゲット材料の温度は、異なる材料に対して調整することができる電源を介して制御することができます。電源は周波数および出力の点で調節することができます。これにより、異なる薄膜を堆積する際の精密制御が可能になります。コントロールパネルは使いやすく、自動蒸着と複数のレシピを保存できます。さらに、ロータリーステージを使用して、1つの基板上に多層フィルムを生成することができます。沈着の均一性は、フィルムの組成を測定するOES検出器を使用して監視されます。機械は信頼できるフィルムの沈殿を保障するいろいろな特徴が装備されています。それに重負荷の間に適切な操作を保障する用具の冷却資産があります。高速ロードロックにより、基板転送時間の短縮が可能です。エアベアリングモデルは、基板の均一な回転を保証し、スムーズな動作を保証します。さらに、この装置は建築材料にトレーサビリティを提供し、10億個あたりの部品制御による環境制御を提供します。これにより、製品のクリーンな蒸着プロセスと均一性が保証されます。システムはユーザーに開放されているため、必要に応じて手動でプロセスを実行できます。これには、手動で電源を調整したり、フィルムの成長を監視したり、蒸着時間を正確に制御したりすることが含まれます。また、表面汚染や酸化試験などのトラブルシューティングに使用できるさまざまな診断機能も備えています。HWT-250/ PSA-15スパッタリングマシンは、信頼性が高く、ユーザーフレンドリーで、均一で正確な薄膜の成膜用の堅牢なツールです。それは多数の適用のためのさまざまな薄膜の生成を可能にします。このツールには、薄膜の高精度成膜に必要なすべての機能が装備されています。
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