中古 EMITECH / EDWARDS K575X #293608605 を販売中

EMITECH/EDWARDS K575Xは、金属、合金、酸化物などの材料の薄膜の沈着に使用されるハイエンドスパッタリングシステムで、さまざまな研究および産業用途に使用されています。このシステムは、RF電源、マグネトロン源、真空チャンバ、プロセスガスレギュレータで構成されています。RF電源は、周波数13。56MHz、最大出力35kWのソリッドステート・ハイパワー電源です。これにより、広い領域にわたって厚さと処方的なコーティングパラメータを正確に制御できます。マグネトロン源は永久磁石を使用してプラズマ形状を制御し、プラズマパラメータを制御するための調整可能な電源とチューニング制御を備えています。これにより、対象物質を広範囲に均一に堆積させることができます。真空チャンバーはステンレス鋼で構成されており、2 m3の容量があり、基圧は5x10-5 mbar未満です。直径200mmまでの基板サイズのフラット基板や円筒基板など、いくつかのタイプの基板と互換性があります。また、ガスインレットと排気が含まれており、フィルム特性を向上させるためにスパッタリング工程中に反応ガスを追加することができます。プロセスガスレギュレータは、インラインゲージを使用して素早く監視できるプロセスガス圧力の調整を可能にします。これにより、所望のフィルム特性を得るために必要なプロセスパラメータを正確に制御できます。さらに、デュアルゾーン機能を備えており、異なるパラメータを同じ実行で異なる基板領域に適用することができます。EMITECH K575Xは、効率的で正確なスパッタリングプロセスを可能にする多くの機能を備えた強力で汎用性の高いスパッタリングシステムです。半導体や光電子デバイス用の薄膜の堆積など、研究や産業用途に適しています。